[发明专利]一种紫外光和紫外激光双光源清洗设备

权利要求书

1.一种紫外光和紫外激光双光源清洗设备，包括紫外激光光源(1)、反射镜(2)、紫外灯光源(4)、和工作台(7)，其特征在于：所述工作台(7)的上方设有紫外激光光源(1)和紫外灯光源(4)，所述紫外激光光源(1)的一侧设有反射镜(2)。

2.根据权利要求1所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：所述紫外激光光源(1)为准分子激光器、固体紫外激光器或紫外光纤激光器中的一种，且紫外激光光源(1)通过支撑架固定安装于工作台(7)的上方。

3.根据权利要求1所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：所述反射镜(2)将紫外激光光源(1)输出的紫外激光束反射到工作台(7)上。

4.根据权利要求1所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：所述紫外灯光源(4)为紫外灯，且紫外灯光源(4)通过支撑架固定安装于工作台(7)的上方。

5.根据权利要求1所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：还包括光路整形系统(3)，所述光路整形系统(3)设置在反射镜(2)的下方，由激光扩束模块、激光聚焦模块或其他光学变换功能的光学模块组成，紫外激光束通过所述反射镜(2)反射入光路整形系统(3)后，通过所述路整形系统(3)照射到工作台(7)上。

6.根据权利要求1所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：还包括光学系统(5)，所述光学系统(5)设置于紫外灯光源(4)下方，所述光学系统(5)由透镜、光束整形元件、反射镜、光纤、振镜和扫描驱动系统组成的系统，紫外光通过所述光学系统(5)照射到工作台(7)上。

7.根据权利要求6所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：在所述光学系统(5)还包括一不透光的掩膜。

8.根据权利要求1所述的紫外光和紫外激光双光源清洗设备，其特征在于：所述工作台(7)采用两维位移工作台，在清洗过程中用来承载和移动被清洗物件(6)。