[发明专利]一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置在审
申请号: | 201810852039.4 | 申请日: | 2018-07-30 |
公开(公告)号: | CN109055740A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 贾文成;胡国静 | 申请(专利权)人: | 东营骐丰钛业科技有限公司;北京宝泰丰金属研究所 |
主分类号: | C22B3/22 | 分类号: | C22B3/22;C22B3/02;C22B34/14;C25C3/26;C25C7/06 |
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地址: | 100160 北京市丰台区南四*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电解锆 电解质 核级 熔化 卤化物杂质 低温区 连续化 去除 氯化钠 残留 氯化钾 高纯氩气 高温真空 冷却降温 石英滤芯 真空条件 蒸馏处理 受热 氟化钾 氟化钠 加热核 卤化物 气化的 水冷套 蒸馏仓 滴落 高纯 水冷 坩埚 蒸汽 过滤 蒸发 扩散 | ||
1.一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置,其特征在于,所述装置包括:加热炉(1)、蒸馏仓(2)、蒸馏坩埚(3)、待净化的核级电解锆(4)、陶瓷滤芯(5)、蒸馏仓收集漏斗(6)、蒸馏仓插板阀(7)、冷却结晶仓插板阀(8)、冷却结晶仓漏斗(9)、冷凝坩埚(10)、冷凝卤化物(11)、结晶卤化物(12)、冷却结晶仓(13)、水冷仓(14)、进水口(15)、出水口(16);
在高温区与低温区过渡阶段设置两个真空插板阀,可形成两个独立的密闭仓体,上部为蒸馏仓、下部为冷却结晶仓。当完成高温真空蒸馏后,填充高纯氩气,关闭两个插板阀,将密闭的高温蒸馏仓体转移至水冷仓进行冷却。将装有待处理电解锆的蒸馏仓直接转移至高温炉内进行高温真空蒸馏。
2.根据权利要求1所述的一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置,其特征在于,所述装置避免蒸馏仓在炉内冷却,显现连续化作业,提高效率、节约能量的目的。
3.根据权利要求1所述的一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置,其特征在于,所述装置采用双插板阀结构,形成两个独立的密闭仓体,可实现连续化作业,降低能量损耗、提高生产效率。
4.根据权利要求1所述的一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置,其特征在于,所述蒸馏仓外表面涂覆高温抗氧化涂层,可使蒸馏仓在800℃以上高温条件下长期工作,防止蒸馏仓在高温下氧化,尤其是防止蒸馏仓焊接缝隙的氧化,避免形成氧化空隙降低气密性。
5.根据权利要求1所述的一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置,其特征在于,所述装置在800℃以上高温下工作,有利于卤化物杂质快速蒸发脱除。
6.根据权利要求1所述的一种连续化去除核级电解锆中卤化物杂质装置,其特征在于,所述装置将陶瓷滤芯应用于过滤核级锆。陶瓷滤芯材质为氧化锆陶瓷、碳化硅陶瓷、氮化硼陶瓷或氮化钛陶瓷,上述陶瓷与核级锆、熔盐不发生明显反应,可有效过滤掉核级锆中的熔盐,防止核级锆粉滴落坩埚,造成金属损失。
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