[发明专利]触控基板和触控装置有效

专利信息
申请号: 201810847392.3 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN110764638B 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 王庆浦;方振中;贺晓悦;尹利;张志 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 姜春咸;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 触控基板 装置
【权利要求书】:

1.一种触控基板,包括触控区和边框区,所述边框区包括遮光子区和用于透过预定波段的光线的滤光子区,其特征在于,所述触控基板包括衬底、设置在所述衬底上的遮光层和滤光油墨层,所述滤光油墨层位于所述遮光层背离所述衬底的一侧;所述遮光层位于所述遮光子区,所述滤光油墨层位于所述边框区,且至少覆盖所述滤光子区;所述遮光子区与所述滤光子区的明度之差小于3.6;

所述遮光层与所述滤光油墨层之间还设置有增反层。

2.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述遮光层与所述滤光油墨层的明度之差小于3.6。

3.根据权利要求2所述的触控基板,其特征在于,所述遮光层与所述滤光油墨层的明度之差在0.5~2之间。

4.根据权利要求2所述的触控基板,其特征在于,所述滤光油墨层的明度在23~24.5之间,所述遮光层的明度在24~25之间。

5.根据权利要求4所述的触控基板,其特征在于,所述遮光层的厚度在1.5μm~2.3μm之间。

6.根据权利要求2至5中任意一项所述的触控基板,其特征在于,所述增反层的反射率在1%~15%之间。

7.根据权利要求2至5中任意一项所述的触控基板,其特征在于,所述增反层包括氮氧化硅层、氧化硅层和五氧化二铌层中的任意一层或多层的复合层。

8.根据权利要求2至5中任意一项所述的触控基板,其特征在于,所述增反层为氮氧化硅层,所述增反层的厚度在之间。

9.根据权利要求2至5中任意一项所述的触控基板,其特征在于,所述增反层覆盖所述边框区和所述触控区,所述触控基板还包括位于所述触控区的触控电极层,所述触控电极层设置在所述衬底与所述增反层之间。

10.根据权利要求9所述的触控基板,其特征在于,所述触控电极背离衬底的一侧还设置有绝缘层;

所述绝缘层位于所述增反层与所述触控电极层之间;或者,所述绝缘层位于所述增反层背离所述触控电极层的一侧。

11.根据权利要求10所述的触控基板,其特征在于,所述绝缘层的材料包括光刻胶。

12.根据权利要求10所述的触控基板,其特征在于,所述绝缘层的厚度在1μm~3μm之间。

13.一种触控装置,其特征在于,包括权利要求1至12中任意一项所述的触控基板。

14.根据权利要求13所述的触控装置,其特征在于,所述触控装置还包括显示面板,所述触控基板位于所述显示面板的出光侧。

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