[发明专利]成膜装置、成膜方法、以及电子设备制造方法

说明书

本发明提供一种成膜装置、成膜方法、以及电子设备制造方法。本发明的成膜装置用于经由掩模在基板上成膜蒸镀材料，该成膜装置包括：真空腔室，所述真空腔室定义进行蒸镀工序的空间；基板吸附机构，所述基板吸附机构设置在所述真空腔室内，用于吸附基板；磁力施加机构，所述磁力施加机构在所述真空腔室内设置在所述基板吸附机构之上，用于对掩模施加磁力；以及对准台，所述对准台设置在所述真空腔室的第一外部面上，用于使所述基板吸附机构以及所述磁力施加机构在第一方向、与所述第一方向交叉的第二方向、以与所述第一方向以及所述第二方向交叉的第三方向为轴的旋转方向中的至少一个方向上移动或旋转。

技术领域

本发明涉及成膜装置以及成膜方法，尤其涉及具有在对准台上搭载了基板吸附机构的升降机构和磁力施加机构的升降机构的构造的成膜装置以及使用该成膜装置的成膜方法。

背景技术

最近，作为平板显示装置，有机EL显示装置备受关注。有机EL显示装置是自发光显示器，其响应速度、视角、薄型化等特性均优于液晶面板显示器，在监视器、电视机、以智能手机为代表的各种便携式终端等中，正在快速地代替现有的液晶面板显示器。另外，在汽车用显示器等中也在扩展其应用领域。

有机EL显示装置的元件具备在两个相向的电极(阴极、阳极)之间形成有产生发光的有机物层的基本构造。有机EL显示装置元件的有机物层以及电极层以下述方式形成：使通过对设置在成膜装置的真空腔室的下部的蒸镀源进行加热而蒸发的蒸镀材料通过形成有像素图案的掩模而蒸镀于在真空腔室上部放置的基板(的下表面)。

在这样的朝上蒸镀方式的成膜装置的真空腔室内，基板由基板保持架保持，但为了不损伤在基板(的下表面)形成的有机物层/电极层，基板的下表面的周缘部由基板保持架的支承部以及夹具来保持。但是，在该情况下，随着基板尺寸的增大，没有由基板保持架的支承部以及夹具支承的基板的中央部会因基板的自重而产生挠曲。这成为使基板相对于掩模的对准精度以及基板和掩模的紧贴精度下降，结果导致向基板上的蒸镀精度下降的主要原因。

作为用于减小由基板自重引起的挠曲的方法，研究了使用静电卡盘来保持基板的技术。即，在基板的上部设置静电卡盘，通过向静电卡盘施加电压而使基板的上表面吸附于静电卡盘，从而使基板的中央部在静电卡盘的静电引力的作用下被拉伸，减小基板的挠曲。

在使用静电卡盘的以往的成膜装置中，通过使被静电卡盘吸附的状态的基板相对于掩模在水平方向(XYθ方向)上相对移动，从而进行对基板和掩模的相对位置进行调节的对准工序。

在将通过上述方式进行了相对位置调节(对准)的基板载置于掩模的上表面的状态下，使磁板从基板的上部下降并使磁板与基板的上表面抵接。磁板通过隔着基板向掩模施加磁力而使基板和掩模紧贴。

发明内容

发明要解决的课题

然而，在使用静电卡盘的方式的成膜装置中，与使用基板夹具的方式的成膜装置相比，静电卡盘与基板之间的位置调节以及磁板与掩模之间的位置调节的精度会对成膜精度产生大的影响。

即，当在因基板的输送机器人输送基板的输送误差等而使静电卡盘与基板的相对位置在水平方向(XYθ方向)上偏离的状态下使基板吸附于静电卡盘时，基板与静电卡盘不能牢牢地紧贴。若在这样的状态下进行基板相对于掩模的对准工序，则基板相对于掩模的位置调节的精度会下降。

另外，当在磁板与受其磁力的掩模之间的相对位置发生了偏离的状态下使磁板对掩模施加磁力时，磁力不会被充分地施加于掩模，存在基板与掩模之间的紧贴精度下降的问题。

本发明的主要目的在于提供一种即使当在静电卡盘与基板之间以及磁板与掩模之间发生了相对位置的偏离时，也能够一边相对于基板对静电卡盘进行位置调节，一边相对于掩模对磁板进行位置调节的成膜装置、成膜方法、以及电子设备的制造方法。

用于解决课题的方案