[发明专利]一种真空泄漏判断控制系统在审
| 申请号： | 201810838082.5 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN109269734A | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 刘自芳 | 申请（专利权）人： | 合肥瑞智电力电子有限公司 |
| 主分类号： | G01M3/20 | 分类号： | G01M3/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230009 安徽省合肥市蜀*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 上位机 判断控制系统 四极质谱仪 真空泄漏 真空计 检漏 压强 残留气体 电性连接 控制系统 连接设备 实时显示 下层单元 信号连接 真空泵 真空阀 启停 泄漏 绘制 反馈 灵活 分析 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空泄漏判断控制系统，包括上位机、PLC和真空计，其特征在于，所述上位机与PLC连接，所述上位机与真空计信号连接，所述PLC与四极质谱仪电性连接。
2.根据权利要求1所述的一种真空泄漏判断控制系统，其特征在于：所述上位机包括触摸屏和工控机，所述工控机与PLC信号连接。
3.根据权利要求1所述的一种真空泄漏判断控制系统，其特征在于：所述真空计与真空规管连接。
4.根据权利要求1所述的一种真空泄漏判断控制系统，其特征在于：所述四极质谱仪安装在真空系统中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥瑞智电力电子有限公司，未经合肥瑞智电力电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810838082.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
