[发明专利]坩埚涂层及其喷涂方法在审
| 申请号： | 201810835865.8 | 申请日： | 2018-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN109078820A | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 丁云飞;杨俊;严军辉;肖贵云;张涛;邓清香;金浩 | 申请（专利权）人： | 晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司 |
| 主分类号： | B05D5/08 | 分类号： | B05D5/08;B05D7/00;B05D7/24;C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 何世磊 |
| 地址： | 334100 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坩埚涂层 质量配比 氮化硅 分散剂 喷涂 硅锭 涂覆 涂层扩散 坩埚内壁 硅溶胶 氧杂质 粘锅 坩埚 侵蚀 概率 | ||
1.一种坩埚涂层，其特征在于，包括：涂覆于所述坩埚内壁上的第一涂层和涂覆于所述第二涂层上的第二涂层，其中，
所述第一涂层的原料包括氮化硅、水、硅溶胶和分散剂，其质量配比为3～8:3～8:1～3:0.05～0.15；
所述第二涂层的原料包括氮化硅、水和分散剂，其质量配比为3～8:3～8:0.05～0.15。
2.如权利要求1所述的坩埚涂层，其特征在于，所述第一涂层中的氮化硅、水、硅溶胶和分散剂的质量配比为5:5:2:0.1。
3.如权利要求1或2所述的坩埚涂层，其特征在于，所述第二涂层中的氮化硅、水和分散剂的质量配比为5:5:0.1。
4.如权利要求1所述的坩埚涂层，其特征在于，所述分散剂为无水乙醇或异丙醇或聚乙烯吡咯烷酮与无水乙醇的混合物。
5.如权利要求1所述的坩埚涂层，其特征在于，所述第一涂层和所述第二涂层的厚度为0.2～0.3mm。
6.一种坩埚涂层的喷涂方法，其特征在于，包括：
将质量配比为3～8:3～8:1～3:0.05～0.15的氮化硅、水、硅溶胶和分散剂混合搅拌均匀，得到第一涂层溶液；
采用喷涂气枪将所述第一涂层溶液汽化后均匀喷涂至坩埚的内壁上，并烘干，以形成第一涂层；
将质量配比为3～8:3～8:0.05～0.15的氮化硅、水和分散剂混合搅拌均匀，得到第二涂层溶液；
采用喷涂气枪将所述第二涂层溶液汽化后均匀喷涂至第一涂层上，并烘干，以形成第二涂层。
7.如权利要求6所述的坩埚涂层的喷涂方法，其特征在于，所述第一涂层中的氮化硅、水、硅溶胶和分散剂的质量配比为5:5:2:0.1。
8.如权利要求6所述的坩埚涂层的喷涂方法，其特征在于，所述第二涂层中的氮化硅、水和分散剂的质量配比为5:5:0.1。
9.如权利要求6所述的坩埚涂层的喷涂方法，其特征在于，所述第一涂层和所述第二涂层的厚度为0.2～0.3mm。
10.如权利要求6所述的坩埚涂层的喷涂方法，其特征在于，所述第一涂层和第二涂层的烘干温度为80-120℃，烘干时间为5-10min。
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