[发明专利]一种画布清晰度兼容方法与装置在审
| 申请号: | 201810834568.1 | 申请日: | 2018-07-26 |
| 公开(公告)号: | CN109032742A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
| 发明(设计)人: | 尹雪松 | 申请(专利权)人: | 浙江数链科技有限公司 |
| 主分类号: | G06F9/451 | 分类号: | G06F9/451 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 徐丽 |
| 地址: | 310000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 画布 转换矩阵 兼容 像素 画布背景 节点获取 清晰显示 预存储 预设定 样式 清晰 创建 优化 | ||
1.一种画布清晰度兼容方法,其特征在于,所述画布清晰度兼容方法包括:
获取一设备预设定的画布容器的宽高与设备像素比;
创建画布节点,并依据所述画布容器的宽高确定所述画布的样式宽高,及依据所述画布的样式宽高与所述设备像素比的乘积获取所述画布的实际宽高;
依据所述画布的样式宽高、所述画布的实际宽高、设备像素比以及预存储的转换矩阵的公式求得所述设备的转换矩阵;
依据所述画布节点获取画布背景对象;
依据所述画布背景对象与所述转换矩阵对所述画布进行优化,以使画布清晰。
2.如权利要求1所述的画布清晰度兼容方法,其特征在于,在所述创建画布节点的步骤之前,所述画布清晰度兼容方法还包括:
创建一样式为绝对定位的第一容器,并将所述第一容器套设于所述画布容器外;
将所述第一容器的宽高设定为所述画布容器的宽高。
3.如权利要求2所述的画布清晰度兼容方法,其特征在于,在所述创建画布节点的步骤之前,所述画布清晰度兼容方法还包括:
创建一样式为相对定位的第二容器,定义所述第二容器溢出时为隐藏,并将所述第二容器套设于所述第一容器外;
将所述第二容器的宽高设定为所述画布容器的宽高。
4.如权利要求3所述的画布清晰度兼容方法,其特征在于,所述第一容器与所述第二容器均包括div容器。
5.一种画布清晰度兼容装置,其特征在于,所述画布清晰度兼容装置包括:
数据获取单元,用于获取一设备预设定的画布容器的宽高与设备像素比;
画布节点创建单元,用于创建画布节点,并依据所述画布容器的宽高确定所述画布的样式宽高,及依据所述画布的样式宽高与所述设备像素比的乘积获取所述画布的实际宽高;
转换矩阵获取单元,用于依据所述画布的样式宽高、所述画布的实际宽高、设备像素比以及预存储的转换矩阵的公式求得所述设备的转换矩阵;
背景对象获取单元,用于依据所述画布节点获取画布背景对象;
优化单元,用于依据所述画布背景对象与所述转换矩阵对所述画布进行优化,以使画布清晰。
6.如权利要求5所述的画布清晰度兼容装置,其特征在于,所述画布清晰度兼容装置还包括:
容器创建单元,用于创建一样式为绝对定位的第一容器,并将所述第一容器套设于所述画布容器外;
容器宽高设定单元,用于将所述第一容器的宽高设定为所述画布容器的宽高。
7.如权利要求6所述的画布清晰度兼容装置,其特征在于,所述容器创建单元还用于创建一样式为相对定位的第二容器,定义所述第二容器溢出时为隐藏,并将所述第二容器套设于所述第一容器外;
所述容器宽高设定单元,还用于将所述第二容器的宽高设定为所述画布容器的宽高。
8.如权利要求7所述的画布清晰度兼容装置,其特征在于,所述第一容器与所述第二容器均包括div容器。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江数链科技有限公司,未经浙江数链科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810834568.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





