[发明专利]感光元件及其制造方法

说明书

一种感光元件及其制造方法，其中感光元件的制造方法包括：连续沉积第二导电层、感光材料层以及第一顶电极材料层于基板上；形成第一图案化光致抗蚀剂层于第一顶电极材料层上；以第一图案化光致抗蚀剂层为掩模，图案化第一顶电极材料层，以形成第一顶电极；移除第一图案化光致抗蚀剂层；以第一顶电极为掩模，图案化感光材料层，以形成感光层；形成绝缘层于第一顶电极上，且绝缘层具有开口；以及形成第二顶电极于绝缘层上，第二顶电极透过开口而电性连接第一顶电极。

技术领域

本发明是有关于一种电子元件及其制造方法，且特别是有关于一种感光元件及其制造方法。

背景技术

随着科技的进展，个人用电子设备的功能日益增加。举例来说，现在市面上的手机往往除了通话功能以外，更包含了照相功能、录影功能、记事功能、上网功能......等等生活中时常会使用的功能。在这些具备多功能的电子设备中，往往设置有感光元件，感光元件能检测电子产品所处环境的光线，除了能帮助使用者获得更佳的拍照、录影品质外，部分的感光元件还能检测使用者手指表面的起伏，使电子产品具备指纹辨识的功能。要如何提升感光元件的成像品质以准确的辨识使用者的指纹是目前各家厂商亟欲解决的问题。

发明内容

本发明提供一种感光元件的制造方法，能解决感光层的介面受损导致成像不佳的问题。

本发明提供一种感光元件，能解决感光层的介面受损导致成像不佳的问题。

本发明的一种感光元件的制造方法，包括连续沉积第二导电层、感光材料层以及第一顶电极材料层于基板上。接着，形成第一图案化光致抗蚀剂层于第一顶电极材料层上，再以第一图案化光致抗蚀剂层为掩模，图案化第一顶电极材料层，以形成第一顶电极。之后，移除第一图案化光致抗蚀剂层，再以第一顶电极为掩模，图案化感光材料层，以形成感光层。接着，形成绝缘层于第一顶电极上。绝缘层具有开口。再来，形成第二顶电极于绝缘层上，且第二顶电极透过开口而电性连接第一顶电极。

本发明的一种感光元件，包括底电极、感光层、第一顶电极、绝缘层以及第二顶电极。底电极、感光层以及第一顶电极依续堆叠于基板上。感光层的材料包括富硅氧化物。底电极与感光层之间具有实质平坦的介面。绝缘层设置于第一顶电极上。绝缘层覆盖第一顶电极和感光层和底电极。绝缘层具有开口。第二顶电极透过开口而电性连接第一顶电极。

基于上述，本发明的感光元件及其制造方法可以改善感光元件成像不佳的问题，提升显示品质。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A至图1O是依照本发明一实施例的一种感光元件的制造流程示意图。

图2是依照本发明一实施例的一种感光元件的部分元件的上视示意图。

图3是依照本发明另一实施例的一种感光元件的剖面示意图。

图4是依照本发明另一实施例的一种感光元件的部分元件的上视示意图。

图5是根据图4的剖面线B-B’示出的感光元件的剖面示意图。

其中，附图标记：

10、20、30：感光元件

100：背光模块

A-A’、B-B’：剖面线

BE：底电极

CE：电容电极

CL：图案化导线层

D：漏极

DL：数据线

FL：平坦层

FL1：第一有机平坦层