[发明专利]一种聚吡咯基光热转化薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201810819769.4 | 申请日： | 2018-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN110747692A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 江河清;王灿柱;王玉超 | 申请（专利权）人： | 中国科学院青岛生物能源与过程研究所 |
| 主分类号： | D21H19/16 | 分类号： | D21H19/16;D21H19/24;C08J7/16;D06M15/37;D06M101/06;C08L27/16 |
| 代理公司： | 21002 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 李颖 |
| 地址： | 266101 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚合 化学气相沉积 光热转化 聚吡咯 薄膜 制备方法和应用 复合材料领域 基底材料表面 常规电化学 性能稳定性 氧化剂溶液 液相化学法 光吸收体 原位生长 吡咯单体 基底膜 膜材料 密闭 制备 太阳能 浸泡 蒸发 吸收 转化 | ||
1.一种聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：采用化学气相沉积聚合法，将基底膜在氧化剂溶液中浸泡，干燥，再与吡咯单体密闭聚合，得光热转化薄膜。
2.按权利要求1所述聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：
(1)将基底膜在氧化剂溶液中浸泡，干燥，得到氧化剂包覆的基底膜；
(2)将所述步骤(1)得到的氧化剂包覆的基底膜与吡咯，在密闭条件下聚合反应，得到聚吡咯包覆的基底膜；
(3)将所述步骤(2)得到的聚吡咯包覆的基底膜洗涤、干燥，得到聚吡咯基光热转化薄膜。
3.按权利要求1或2所述聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：所述基底膜为无尘纸、滤纸、聚偏氟乙烯膜、聚砜膜、氧化铝膜、棉布、海绵、牛皮纸、打印纸或无纺布。
4.按权利要求1或2所述聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：所述氧化剂溶液的浓度为0.01-1mol/L，具体为将氧化剂溶于溶剂中。
5.按权利要求1或2所述聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：所述浸泡温度为0-50℃，浸泡时间为0.5-24h。
6.按权利要求1或2所述聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：所述吡咯单体与基底膜的用量关系为0.05-10μl/cm2。
7.按权利要求1或2所述聚吡咯基光热转化薄膜的制备方法，其特征在于：所述聚合温度为4-150℃，聚合时间为5-300min。
8.一种权利要求1所述制备方法获得的聚吡咯基光热转化薄膜。
9.一种权利要求8所述聚吡咯基光热转化薄膜的应用，其特征在于：所述聚吡咯基光热转化薄膜于光热转化中的应用。
10.按权利要求9所述聚吡咯基光热转化薄膜的应用，其特征在于：所述聚吡咯基光热转化薄膜于光热转化中用于光热蒸发分离淡水的应用。
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