[发明专利]一种清洁能力高且磨损值小的口腔护理组合物

说明书

本发明公开了一种清洁能力高且磨损值小的口腔护理组合物，包括磨擦型二氧化硅和小苏打，所述小苏打的粒径在10‑250微米之间。该口腔护理组合物具有清洁能力高且磨损值小的特点，具体来说，本发明的口腔护理产品的清洁能力PCR≥85；且PCR/RDA≥0.90。

技术领域

本发明涉及口腔护理技术领域，尤其是涉及一种清洁能力高且磨损值小的口腔护理组合物。

背景技术

磨擦剂是口腔护理产品配方重要的组成部分，可以起到使牙面清洁、光滑、发亮，去除色素沉着、菌斑沉积与滞留的作用。理想的磨擦剂应该是清洁能力强，同时对牙面无损伤的。

所以口腔护理行业通常会用清洁能力和磨损值两个指标来评价磨擦剂的性能。

牙清洁能力一般通过生物膜清洁率实验模型(pellicle cleaning ration,PCR)进行评价。该模型是由美国Indiana大学于1982年报道，用于评价牙膏去除牙齿外源性色斑功效，PCR结果与临床实验具有很好的相关性(r＝0.85)，欧美牙膏工业界广泛使用PCR评价牙膏物理性去除外源性色斑的效果。

磨损值通常采用牙本质相对磨损值(Relative detine abrasivity，RDA)进行评价。因为牙釉质硬度较高，磨擦剂对牙釉质的损害较小，而磨损主要会发生在牙本质上。目前一般使用放射性失踪法测定RDA值，ISO1609和美国FDA都要求使用该法测试牙膏的RDA值不能超过250。

理想的口腔护理产品，例如牙膏，一方面应该有较高的PCR值，能清洁口腔，去除牙菌斑；另一方面，其RDA值不能过高，否则会对牙本质造成磨损，伤害牙齿。由于磨擦剂是通过物理摩擦的方式实现清洁的，有的磨擦剂清洁能力强，但其磨损值也较高；有的磨擦剂摩擦能力不强，磨损值较低，但无法达到清洁牙齿的功效。

针对口腔护理产品中的磨擦体系，具有较高的PCR值，且其RDA值愈小越好。PCR/RDA是口腔护理产品(例如牙膏)的PCR值与RDA值之间的比值，反映了单位牙本质磨损值下牙膏清洁能力的强弱。PCR/RDA值越大，表示造成单位牙本质磨损的情况下，牙膏的清洁能力越强。对于美白牙膏而言，达到目标PCR值以后，且RDA不超过250情况下，PCR/RDA值越大越好。PCR/RDA可以有效的反映配方中摩擦体系在不伤害牙齿的前提下清洁能力的强弱。

中国专利申请CN 107519026 A公开了一种具有去渍及清新口气的牙粉及其制备方法。该文献介绍了牙粉产品较牙膏、漱口水等口腔清洁护理用品具有摩擦力强、清洁效果好的优势，为部分有牙渍消费者所喜欢，但现有的牙粉产品由于其磨擦剂添加量过多，在具有高清洁力的同时对牙齿的磨损也相对较大，为解决该问题，该文献提供了如下技术方案，一种具有去渍及清新口气的牙粉，由以下质量百分比的各组分组成：保湿剂1-10％；复合磨擦剂70-90％；发泡剂2-8％；水余量。所述复合磨擦剂包括活性炭和第二磨擦组分，所述第二磨擦组分选自二氧化硅、碳酸钙、二水合磷酸氢钙中的至少一种。

因此，在口腔护理产品中，对清洁能力和磨损值之间的关系进行了相关的研究，但是，上述公开文献的技术方案仅适用于牙粉，对普通的口腔护理产品(例如牙膏)来说还没有合适的技术方案。

发明内容

本申请要解决的技术问题是提供一种清洁能力高且磨损值小的口腔护理组合物。该口腔护理组合物具有清洁能力高且磨损值小的特点，具体来说，本发明的口腔护理产品的清洁能力PCR≥85；且PCR/RDA≥0.90。

为解决上述技术问题，本发明采用如下的技术方案：

一种清洁能力高且磨损值小的口腔护理组合物，包括磨擦型二氧化硅和小苏打，所述小苏打的粒径在10-250微米之间，优选粒径在30-200微米之间。

优选地，所述二氧化硅占口腔护理组合物的百分比为2-30wt％。