[发明专利]一种CT扫描制样装置在审
| 申请号: | 201810818246.8 | 申请日: | 2018-07-24 |
| 公开(公告)号: | CN108896372A | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
| 发明(设计)人: | 汪洪平;李丹;张超;谭玄;马昌坤 | 申请(专利权)人: | 武汉科技大学 |
| 主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/36 |
| 代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立;陈振玉 |
| 地址: | 430081 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制样筒 垫片 底壁 内壁密封 水平设置 制样装置 驱动件 透气层 透气孔 细砂 内部中空 三轴试验 上端敞口 上下贯穿 试样压缩 竖向设置 数值模拟 外力作用 向下移动 筒体 制样 重构 验证 驱动 | ||
本发明公开了一种CT扫描制样装置,包括制样筒、垫片、透气层和驱动件,所述制样筒为竖向设置且内部中空的筒体,其上端敞口,且其内部的底壁为平面;所述垫片水平设置在所述制样筒内,其四周与所述制样筒的内壁密封接触,所述垫片和/或所述制样筒的底壁上设有多个上下贯穿两者的透气孔;所述透气层水平设置在所述垫片和所述制样筒内的底壁之间,并与所述透气孔接触,其四周与所述制样筒的内壁密封接触;已知尾细砂干密度,在外力作用下,所述驱动件在外力的作用下驱动所述垫片向下移动,以将尾细砂试样压缩至指定体积,避免了因制样而给三轴试验对CT扫描重构后数值模拟结果的验证带来误差。
技术领域
本发明涉及CT扫描试样制样技术领域,具体涉及一种尾细砂的CT扫描制样装置。
背景技术
目前对砂的细观结构研究主要是通过CT扫描分析试样细观颗粒、孔隙分布,采用的制样为砂雨法,砂雨法制取试样时无法在已知试样干密度条件下将计算制取的试样压缩到指定体积,其细观结构会受到影响,同时给三轴试验对CT扫描重构后数值模拟结果的验证带来较大误差。
因此,提供一种提高扫描试样细观结构的准确性的制样装置是本领域亟待解决的问题。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明的主要目的是提供,旨在提供一种CT扫描制样装置,采用的技术方案为:
一种CT扫描制样装置,包括制样筒、垫片、透气层和驱动件,所述制样筒为竖向设置且内部中空的筒体,其上端敞口,且其内部的底壁为平面;所述垫片水平设置在所述制样筒内,其四周与所述制样筒的内壁密封接触,所述垫片和/或所述制样筒的底壁上设有多个上下贯穿两者的透气孔;所述透气层水平设置在所述垫片和所述制样筒内的底壁之间,并与所述透气孔接触,其四周与所述制样筒的内壁密封接触,所述驱动件与所述垫片连接,外力驱动所述驱动件移动带动所述垫片沿所述制样筒内壁向下移动靠近所述制样筒的底壁,或向上移动远离所述制样筒的底壁。
预先通过尾细砂试样的干密度计算制取的尾细砂试样的指定体积;当所述垫片上设有透气孔时,且所述透气层设置在所述垫片的下端,尾细砂试样放置在所述透气层和所述制样筒内的底壁之间,在外力的作用下,所述驱动件驱动所述垫片和所述透气层向下移动靠近所述制样筒的底壁,空气从透气孔和透气层中排出,并压缩尾细砂试样直至尾细砂被压缩到指定体积;
当所述制样筒的底壁设有透气孔时,所述透气层设置在所述制样筒内的底壁上端,尾细砂试样设置在所述垫片和所述透气层之间,在外力的作用下,所述驱动件下降驱动所述垫片向下移动靠近所述制样筒的底壁,气体从透气孔和透气层中排出,并压缩尾细砂,直至尾细砂被压缩到指定体积。
进一步的,所述透气层包括第一透气层和第二透气层,所述第一透气层和第二透气层均水平设置,所述第一透气层设置在所述制样筒的底壁上,所述第二透气层设置在所述第一透气层的上端,所述第二透气层设置在所述垫片的下端,且两者的四周均分别与所述制样筒的内壁密封接触。
第一透气层和第二透气层保证了压缩试样时,试样内部的气体能够均匀的排出。
进一步的,所述制样筒的周向侧壁上沿上下方向设有刻度标线。
进一步的,所述刻度尺的零刻度位于所述第一透气层的上端端部处。
进一步的,所述透气层为透水石层。
进一步的,所述制样筒的下端面为平面。
进一步的,所述驱动件包括固定环和推柄,所述固定环固定在所述垫片的上端端部;所述推柄竖向设置,其下端通过连接件与所述固定环固定连接,其上端伸出所述制样筒上端敞口处。
进一步的,所述连接件为多个扇形的贴片,所述固定环为圆环,所述贴片均水平设置,并分别沿所述固定环的周向均匀间隔分布在所述固定环的内圈中,每个所述贴片呈弧形的一端与所述固定环的内圈固定连接,另一端分别与所述推柄的下端固定连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉科技大学,未经武汉科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810818246.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





