[发明专利]用于模拟致密岩石的人造岩心及其制作方法

权利要求书

1.一种用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，包括：

获取岩石样品的矿物相关参数、孔隙相关参数以及有机质相关参数；

根据所述矿物相关参数、所述孔隙相关参数以及所述有机质相关参数，选择有机膜和无机膜；

采用选择的有机膜和无机膜制作用于模拟所述岩石样品的人造岩心；

根据所述矿物相关参数、所述孔隙相关参数以及所述有机质相关参数，选择有机膜和无机膜，包括：

针对所述岩石样品的无机孔隙，根据无机孔隙的所述矿物相关参数和所述孔隙相关参数，选择无机膜；

针对所述岩石样品的有机孔隙，根据有机孔隙的所述有机质相关参数和所述孔隙相关参数，选择有机膜；

还包括：

根据所述岩石样品中无机孔隙占总孔隙的比例调整所述人造岩心中无机膜的总厚度；根据所述岩石样品中有机孔隙占总孔隙的比例调整所述人造岩心中有机膜的总厚度。

2.如权利要求1所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，选择的无机膜包括陶瓷多孔膜或金属多孔膜；选择的有机膜包括高分子膜。

3.如权利要求1所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，

所述岩石样品中无机孔隙和有机孔隙的比例与所述人造岩心中无机膜的总厚度和有机膜的总厚度的比例一致。

4.如权利要求1所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述人造岩心中，采用非规则形状的无孔隙的隔板来模拟所述岩石样品内部的非均质性特征。

5.如权利要求1所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，所述矿物相关参数包括：矿物种类以及矿物颗粒平均尺寸；所述孔隙相关参数包括：孔隙度以及孔隙孔径分布；所述有机质相关参数包括有机质总量以及有机质孔隙百分比。

6.如权利要求1至5中任一项所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，采用选择的有机膜和无机膜制作用于模拟所述岩石样品的人造岩心，包括：

将选择的有机膜和无机膜裁切为直径相同的膜圆片；

将所有的膜圆片同心叠放，形成柱体；

沿着所述柱体的轴向施加压力，将所有的膜圆片压实，得到柱体形状的所述人造岩心。

7.如权利要求6所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，还包括：

利用空心圆柱模具封装由所有的膜圆片组成的所述柱体。

8.如权利要求7所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述柱体与所述空心圆柱模具之间灌注环氧树脂胶进行封装。

9.如权利要求6所述的用于模拟致密岩石的人造岩心的制作方法，其特征在于，还包括：

在所述柱体的两端分别设置有垫片。

10.一种用于模拟致密岩石的人造岩心，其特征在于，包括：

有机膜；

无机膜，其中，所述有机膜和所述无机膜是根据岩石样品的矿物相关参数、孔隙相关参数以及有机质相关参数确定的，所述无机膜是针对所述岩石样品的无机孔隙，根据无机孔隙的所述矿物相关参数和所述孔隙相关参数确定的；所述有机膜是针对所述岩石样品的有机孔隙，根据有机孔隙的所述有机质相关参数和所述孔隙相关参数确定的，所述人造岩心中无机膜的总厚度是根据所述岩石样品中无机孔隙占总孔隙的比例调整的，所述人造岩心中有机膜的总厚度是根据所述岩石样品中有机孔隙占总孔隙的比例调整的。

11.如权利要求10所述的用于模拟致密岩石的人造岩心，其特征在于，所述无机膜包括陶瓷多孔膜或金属多孔膜；所述有机膜包括高分子膜。