[发明专利]蚀刻效果预测方法和确定人工神经网络的输入参数的方法在审

专利信息
申请号: 201810812094.0 申请日: 2018-07-23
公开(公告)号: CN109726810A 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 沈星辅 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G06N3/08 分类号: G06N3/08;G06F17/50;H01L21/66
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 人工神经网络 输入参数 效果预测 样本区域 测量 蚀刻工艺 物理特性 掩模图案 输出 参考 预测
【权利要求书】:

1.一种蚀刻效果预测方法,所述蚀刻效果预测方法包括下述步骤:

确定待预测蚀刻偏差的掩模图案的样本区域;

确定表示对在样本区域中进行的蚀刻工艺有影响的物理特性的输入参数;

对通过将输入参数输入到人工神经网络而获得的输出值与出现在样本区域中的蚀刻偏差的测量值进行比较;以及

允许人工神经网络学习,直到输出值与测量值之间的差等于或小于预定参考值。

2.根据权利要求1所述的蚀刻效果预测方法,其中,样本区域包括位于不同位置中的多个样本区域,并且

其中,所述蚀刻效果预测方法还包括:将在所述多个样本区域中的每个样本区域中确定的输入参数输入到人工神经网络。

3.根据权利要求1所述的蚀刻效果预测方法,其中,输入参数包括:

第一输入参数,与在进行蚀刻工艺时同样本区域接触的蚀刻粒子的量对应;以及

第二输入参数,与相邻于样本区域的掩模图案的形状对应。

4.根据权利要求3所述的蚀刻效果预测方法,其中,确定输入参数的步骤包括:

在样本区域周围限定多个密度测量区域,并且计算在所述多个密度测量区域中的每个密度测量区域中由掩模图案占有的面积比;以及

通过以预定顺序排列在所述多个密度测量区域中的每个密度测量区域中计算的面积比来确定第一输入参数。

5.根据权利要求4所述的蚀刻效果预测方法,其中,计算面积比的步骤包括:

限定以样本区域为中心的多个图形;

限定穿过样本区域的多条线;以及

在所述多个图形与所述多条线相交的交点处限定所述多个密度测量区域。

6.根据权利要求4所述的蚀刻效果预测方法,其中,随着所述多个密度测量区域越远离样本区域,所述多个密度测量区域具有越大的面积。

7.根据权利要求4所述的蚀刻效果预测方法,其中,根据所述多个密度测量区域中的每个密度测量区域的基于样本区域的位置来确定在所述多个密度测量区域中的每个密度测量区域中计算的面积比,以确定第一输入参数。

8.根据权利要求3所述的蚀刻效果预测方法,其中,确定输入参数的步骤包括:

生成包括样本区域的图案图像;

将第一值分配到包括在图案图像中的像素之中的第一像素,其中,在第一像素中出现掩模图案的一部分;

将第二值分配到包括在图案图像中的像素之中的不同于第一像素的第二像素;以及

通过以预定顺序排列包括在图案图像中的像素的各个值来确定第一输入参数。

9.根据权利要求3所述的蚀刻效果预测方法,其中,确定输入参数的步骤包括:

利用多个核生成示出了在形成掩模图案的光刻工艺中使用的光的强度分布的空间图像;以及

通过以预定顺序排列所述多个核之中对空间图像有高的贡献的第一核的值来确定第二输入参数。

10.根据权利要求9所述的蚀刻效果预测方法,其中,所述确定第二输入参数的步骤包括:

通过使包括样本区域的图案图像与每个第一核的图像叠置来生成多个叠置图像;

在所述多个叠置图像中的每个叠置图像中确定第一像素,在第一像素上设置有掩模图案的一部分;

计算在所述多个叠置图像中的每个叠置图像中的与第一像素对应的第一核的值的和;以及

通过以对空间图像的贡献的预定顺序排列针对所述多个叠置图像中每个叠置图像计算的第一核的值的和来确定第二输入参数。

11.根据权利要求9所述的蚀刻效果预测方法,其中,所述多个核包括傅里叶-贝塞尔函数、相干系统的和以及/或者Zernike多项式。

12.根据权利要求9所述的蚀刻效果预测方法,其中,所述多个核对空间图像的贡献具有由光刻模拟器确定的顺序。

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