[发明专利]一种工业硅片材料生产的抛光装置在审
申请号: | 201810802940.0 | 申请日: | 2018-07-20 |
公开(公告)号: | CN108568730A | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 丁茂明 | 申请(专利权)人: | 丁茂明 |
主分类号: | B24B19/22 | 分类号: | B24B19/22;B24B55/00 |
代理公司: | 泰州地益专利事务所 32108 | 代理人: | 王楚云 |
地址: | 225300 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工作台 电机安装 下抛光轮 电动机 立柱 硅片材料 抛光装置 干燥室 转动轴 柜体 滑轨 滑块 输出轴连接 圆形凹槽 安装架 安装座 成品率 抛光片 预留孔 生产 体内 室内 | ||
本发明公开了一种工业硅片材料生产的抛光装置,包括立柱、U形支架、柜体、电机安装室、干燥室和工作台,所述柜体内设置有干燥室和电机安装室,所述电机安装室内通过安装座安装有二号电动机,所述二号电动机的输出轴连接二号转动轴,且二号转动轴上设置有下抛光轮,所述下抛光轮位于工作台顶部的预留孔内,且工作台位于柜体的顶部,所述下抛光轮上设置有圆形凹槽,所述工作台的一侧设置有立柱,所述立柱上设置有滑轨,且滑轨内设置有滑块,所述滑块上固定连接有U形支架,所述U形支架的一侧通过安装架固定安装有一号电动机。本发明结构简单,便于操作,既提高了生产的效率,又提高了抛光片的成品率。
技术领域
本发明涉及机械产品加工技术领域,特别涉及一种工业硅片材料生产的抛光装置。
背景技术
工业半导体硅片是现代超大规模集成电路的主要衬底材料,一般通过拉晶、切片、倒角、磨片、腐蚀、抛光和清洗等工艺过程制造而成的集成电路级半导体硅片,但现有的抛光装置,很容易造成硅片变形,并且工作效率低。为此,我们提出一种工业硅片材料生产的抛光装置。
发明内容
(一)要解决的技术问题
为了克服现有技术不足,现提出一种工业硅片材料生产的抛光装置,可以有效解决现有的抛光装置,很容易造成硅片变形,并且工作效率低的问题。
(二)技术方案
本发明通过如下技术方案实现:本发明提出了一种工业硅片材料生产的抛光装置,包括立柱、U形支架、柜体、电机安装室、干燥室和工作台,所述柜体内设置有干燥室和电机安装室,所述电机安装室内通过安装座安装有二号电动机,所述二号电动机的输出轴连接二号转动轴,且二号转动轴上设置有下抛光轮,所述下抛光轮位于工作台顶部的预留孔内,且工作台位于柜体的顶部,所述下抛光轮上设置有圆形凹槽,所述工作台的一侧设置有立柱,所述立柱上设置有滑轨,且滑轨内设置有滑块,所述滑块上固定连接有U形支架,所述U形支架的一侧通过安装架固定安装有一号电动机。
进一步地,所述干燥室内壁上设置有电加热陶瓷。
进一步地,所述柜体的底部设置有可制动万向轮。
进一步地,所述上抛光轮位于下抛光轮的正上方。
进一步地,所述滑块上设置有制动螺栓。
进一步地,所述一号电动机的输出轴连接一号转动轴,且一号转动轴上设置有上抛光轮。
(三)有益效果
本发明相对于现有技术,具有以下有益效果:
1)、为了解决以往硅片抛光装置不便于固定硅片的问题,将硅片放置在下抛光轮上的圆形凹槽内,有效的起到限位的作用。
2)、为了解决以往的抛光多采用人工的方法,造成打磨效率低的问题,通过滑轨和滑块使U形支架带动一号电动机向下滑动,使上抛光轮压在圆形凹槽内的硅片上,通过制动螺栓便于制动滑块,通过一号电动机和二号电动机分别带动一号转动轴和二号转动轴快速转动,使上抛光轮和下抛光轮快速转动,对硅片的正反面进行快速抛光,提高抛光效率。
3)、为了解决硅片被夹持变形的问题,通过放置在圆形凹槽内,进行水平打磨,避免了硅片在垂直打磨的情况下造成变形。
4)、为了解决以往无法干燥的问题,通过柜体上的干燥室可以对抛光清洗后的硅片,进行快速干燥,便于存放。
附图说明
图1为本发明一种工业硅片材料生产的抛光装置的整体结构示意图。
图2为本发明一种工业硅片材料生产的抛光装置的二号转动轴结构示意图。
图3为本发明一种工业硅片材料生产的抛光装置的电加热陶瓷结构示意图。
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