[发明专利]一种酞菁薄膜的制备方法及酞菁薄膜在审
| 申请号： | 201810798839.2 | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN108912129A | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 王春锐;王挺峰;邵俊峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C07D487/22 | 分类号： | C07D487/22 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 酞菁 薄膜 制备 旋涂 绝缘 补加 衬底 材料科学技术 形貌 衬底加热 有机溶剂 溶液滴 微结构 交联 液滴 平整 | ||
1.一种酞菁薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括步骤：
S1、将酞菁原料溶于有机溶剂中，形成酞菁溶液；
S2、将S1中得到的酞菁溶液滴加在绝缘衬底上，在旋涂仪器上旋转，进行旋涂；
S3、在旋涂过程中，实时补加酞菁溶液的液滴到绝缘衬底上；
S4、将补加了酞菁溶液的绝缘衬底加热，得到所述酞菁薄膜。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述酞菁原料选自酞菁粉末、酞菁衍生物或金属酞菁化合物中的至少一种；所述有机溶剂为可溶解酞菁原料的有机溶剂，所述有机溶剂选自氯仿、乙醇、甲醇、丙酮、乙酸或甲酸中的至少一种。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，酞菁溶液的浓度为0.01～1000mmol/L。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，补加酞菁溶液的液滴的速度为0.001mL～1mL/s，补加酞菁溶液的体积为0.1mL～1000mL。
5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述绝缘衬底选自蓝宝石、SiO2/Si膜或表面生长Al2O3的Si片中的至少一种。
6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，将补加了酞菁溶液的绝缘衬底加热包括在50℃～1000℃的温度条件下，加热0.1～100h。
7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在旋涂仪器上旋转的速度为10r/min～10万r/min。
8.一种酞菁薄膜，其特征在于，所述酞菁薄膜通过权利要求1-7中任意一项所述的制备方法制得。
9.如权利要求8所述的酞菁薄膜，其特征在于，所述酞菁薄膜以酞菁微纳结构为基础，由若干酞菁微纳结构相互之间通过分子间作用相结合，交联成网状所形成。
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