[发明专利]用于调节离子阱中的离子群体以用于MSn

权利要求书

1.一种质谱分析设备，包括：

离子源，其被配置成产生离子；

离子阱，其被配置成：

俘获RF场内的离子；

排出不需要的离子，同时保留目标离子；以及

使目标离子碎裂；

质谱仪控制器，其被配置成：

在没有碎裂的情况下测量通过所述离子阱的前体离子流并且在有碎裂的情况下测量通过所述离子阱的产物离子流；

基于所测量的前体离子流和所测量的产物离子流来确定所述离子阱的注入时间；

用来自所述离子源的离子来填充所述离子阱达等于所述注入时间的时间量；

隔离所述离子阱中的目标前体离子；

使所述目标前体离子碎裂以产生产物离子；以及

对所述产物离子进行质量分析。

2.如权利要求1所述的质谱分析设备，其中所述质谱分析控制器被进一步配置成在没有碎裂的情况下实行扫描循环以确定所述前体离子流。

3.如权利要求1所述的质谱分析设备，其中所述质谱分析控制器被进一步配置成在有碎裂的情况下实行扫描循环以确定所述产物离子流。

4.如权利要求1所述的质谱分析设备，其中所述注入时间进一步基于最大注入时间。

5.如权利要求1所述的质谱分析设备，其中计算所述注入时间以使前体离子的数量保持低于隔离空间电荷限制、活化空间电荷限制或其任何组合，并且使产物离子的数量保持低于谱空间电荷限制。

6.如权利要求5所述的质谱分析设备，其中所述注入时间足够长以使所述前体离子超过所述谱空间电荷限制。

7.如权利要求1所述的质谱分析设备，其中为了使所述目标前体离子碎裂，所述质谱仪控制器被进一步配置成隔离离子碎片以及使所述隔离的离子碎片碎裂以产生产物离子。

8.一种分析离子碎片的方法，包括：

在没有碎裂的情况下测量通过离子阱的前体离子流并且在有碎裂的情况下测量通过所述离子阱的产物离子流；

基于所测量的前体离子流和所测量的产物离子流来确定所述离子阱的注入时间；

将离子供应到离子阱达等于所述注入时间的时间量；

隔离所述离子阱中的目标前体离子；

使所述离子阱中的所述目标前体离子碎裂以产生产物离子；以及

对所述产物离子进行质量分析。

9.如权利要求8所述的方法，其中使所述目标前体离子碎裂进一步包含隔离离子碎片以及进一步使所述隔离的离子碎片碎裂以产生产物离子。

10.如权利要求8所述的方法，进一步包括在没有碎裂的情况下实行扫描循环以确定所述前体离子流。

11.如权利要求8所述的方法，进一步包括在有碎裂的情况下实行扫描循环以确定所述产物离子流。

12.如权利要求8所述的方法，其中注入时间进一步基于最大注入时间。

13.如权利要求8所述的方法，其中计算所述注入时间以使所述前体离子保持低于隔离空间电荷限制、活化空间电荷限制或其任何组合，并且使所述产物离子保持低于谱空间电荷限制。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述注入时间足够长以使所述前体离子超过所述谱空间电荷限制。