[发明专利]一种单银低辐射镀膜玻璃在审
| 申请号： | 201810794835.7 | 申请日： | 2018-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN108726892A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 王栋权;宋保柱;米永江 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫;都春燕 |
| 地址： | 215222 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低辐射镀膜玻璃 玻璃基体 复合膜层 玻璃生产技术 机械性能指标 光学性能 贵金属 复合层 朝外 镀设 沉积 修正 | ||
1.一种单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的ZnSn-ZnO复合层、第一NiCr层、Ag层、Cu层、第二NiCr层和Si3N4层，所述Cu层的厚度为1-4nm。
2.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ag层的厚度为不小于5.1nm。
3.根据权利要求2所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ag层的厚度为5.1-13nm。
4.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述ZnSn-ZnO复合层的厚度为10-30nm。
5.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一NiCr层的厚度为1-4nm。
6.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二NiCr层的厚度为2-13nm。
7.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Si3N4层的厚度为35-50nm。
8.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：25.1nm、1.4nm、9.2nm、1.0nm、3.3nm、40.8nm。
9.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：26.2nm、0.9nm、8.9nm、2.0nm、3.3nm、40.7nm。
10.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：29.8nm、0.8nm、8.6nm、4.0nm、2.7nm、41.2nm。
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