[发明专利]一种物质纯度检测设备和方法

权利要求书

1.一种物质纯度检测设备，其特征在于，所述物质纯度检测装置包括同位素射线发射装置、同位素射线接收装置和安装部；

所述同位素射线发射装置和同位素射线接收装置分别通过所述安装部安装于待测管道的两侧，且所述同位素射线发射装置朝向所述同位素射线接收装置，以使得由所述同位素射线发射装置发射的同位素射线穿过所述待测管道进入所述同位素射线接收装置以实现对待测管道中的待测物质的检测。

2.根据权利要求1所述的物质纯度检测设备，其特征在于，所述安装部包括第一安装件和第二安装件，所述第一安装件和所述第二安装件分别安装于所述待测管道相对的两侧，所述同位素射线发射装置安装于所述第一安装件远离所述待测管道的一侧，所述同位素射线接收装置安装于所述第二安装件远离所述待测管道的一侧。

3.根据权利要求1所述的物质纯度检测设备，其特征在于，所述安装部为夹持结构，所述夹持结构包括第一夹持件和第二夹持件，所述同位素射线发射装置和同位素射线接收装置分别设置于所述第一夹持件和所述第二夹持件远离待测管道的一侧。

4.根据权利要求1所述的物质纯度检测设备，其特征在于，所述安装部上开设有第一容置结构，所述同位素射线发射装置包括用于容置放射性同位素的屏蔽仓，所述屏蔽仓安装于所述第一容置结构中，且朝向所述同位素射线接收装置。

5.根据权利要求4所述的物质纯度检测设备，其特征在于，所述同位素射线发射装置还包括准直器，所述准直器安装于所述第一容置结构中，且所述准直器位于所述同位素射线接收装置和所述屏蔽仓之间。

6.根据权利要求4所述的物质纯度检测设备，其特征在于，所述同位素射线接收装置包括射线探测器，所述安装部上还开设有与所述第一容置结构相对的第二容置结构，所述射线探测器安装于所述第二容置结构，且所述射线探测器朝向所述屏蔽仓。

7.根据权利要求6所述的物质纯度检测设备，其特征在于，所述物质纯度检测设备还包括数据处理器，所述数据处理器与所述射线探测器连接，用于根据所述射线探测器发送的电信号判断所述待测管道中的待测物质的纯度信息。

8.一种气体纯度检测方法，其特征在于，应用于上述权利要求1-7中任一项所述的物质纯度检测设备，所述方法包括：

射线探测器探测在预设时段中由所述同位素射线发射装置发射且经过衰减后的同位素射线的射线强度，并将检测到的同位素射线强度转化为电信号发送给数据处理器；

所述数据处理器根据接收到的电信号计算待测物质在不同时刻下的密度；

基于所述预设时段，所述数据处理器判断在不同时刻下所述待测物质的密度值是否小于预设值，若小于，则判定所述待测物质的纯度满足需求。

9.根据权利要求8所述的气体纯度检测方法，其特征在于，所述方法还包括：

所述数据处理器根据计算得到的所述待测物质在不同时刻下的密度值进行密度曲线绘制，并对绘制完成的密度曲线进行显示以使用户根据该密度曲线进行气体纯度判定。

10.根据权利要求8所述的气体纯度检测方法，其特征在于，所述射线强度I通过以下公式计算得到：

I＝I₀exp(-u_mρX)，其中，I₀为入射射线的强度，u_m为物质的质量吸收系数，ρ为待测物质的密度，X为射线所透过的物质厚度。