[发明专利]调节机构、微透镜阵列系统及曝光机

说明书

本发明涉及一种调节机构、微透镜阵列系统及曝光机，调节机构包括调节箱；第一安装座，用于安装微透镜阵列；及调节件，调节件的一端伸入调节箱，调节件呈间距设有多个、并呈可伸缩地设于调节箱的外侧，调节件伸缩、并抵压第一安装座、使第一安装座在第一方向和第二方向进行移动。微透镜阵列包括调节机构。曝光机包括微透镜阵列系统。通过调节件的设置，当需要调节微透镜阵列与曝光组件之间的位置关系时，调节多个调节件伸入调节箱的深度，使不同调节件抵压第一安装座、从而使第一安装座的位置发生变化，实现调整第一安装座上微透镜阵列位置的技术效果，从而使微透镜阵列的凹面点阵列与曝光组件的像素阵列一一对应，提高后续的图形曝光质量。

技术领域

本发明涉及曝光机的光学调节技术领域，特别是涉及一种调节机构、微透镜阵列系统及曝光机。

背景技术

微透镜阵列(Micro lens array，亦简称MLA)是由通光孔径及浮雕深度为微米级的透镜组成的阵列结构，作为一种重要的光学元件，其不仅具有传统透镜的聚焦、成像等基本功能，而且还具有单元尺寸小、集成度高的特点，使得它能够完成传统光学元件无法完成的功能，并构成新型的光学系统。

曝光机在曝光时，若要曝光更加精密的图案，则无掩模曝光系统(DigitalMicromirror Device，简称DMD系统)的像素需进一步缩小，采用微透镜阵列能够实现该像素缩小的功能。使用时，微透镜阵列的凹面点阵列需与DMD系统的像素阵列一一对应。因此，需对微透镜阵列进行微调、以使其与DMD系统的像素阵列对应。

发明内容

基于此，有必要提供一种调节机构、微透镜阵列系统及曝光机。该调节机构能够对微透镜阵列进行位置调节，提高后续图形曝光的精度；微透镜阵列系统采用该调节机构，提高了微透镜阵列系统使用时的位置精度；曝光机包括微透镜阵列系统，使图形曝光的质量更高。

其技术方案如下：

一方面，提供了一种调节机构，包括调节箱，调节箱设有第一通窗；第一安装座，第一安装座设于调节箱内、并用于安装微透镜阵列，微透镜阵列与第一通窗对应设置；及调节件，调节件的一端伸入调节箱，调节件呈间距设有多个、并呈可伸缩地设于调节箱的外侧，调节件伸缩、并抵压第一安装座、使第一安装座在第一方向和第二方向进行移动；调节件包括第一调节件和第二调节件，第一调节件设有多个、并分别设于调节箱相对设置的第一侧和第二侧，第二调节件设有多个、并分别设于调节箱相对设置的第三侧和第四侧；

调节机构还包括第一保护片和第二保护片，第一保护片设有两个并分别设在第一安装座的第一侧和第二侧，第二保护片设有两个并分别设在第一安装座的第三侧和第四侧，第一保护片和第二保护片环绕第一安装座的外侧设置；

第一调节件设有四个，其中的两个第一调节件抵压一个第一保护片，其中的另外两个第一调节件抵压另一个第一保护片，以使第一保护片抵压第一安装座活动；第二调节件设有两个，其中的一个第二调节件抵压一个第二保护片，其中的另一个第二调节件抵压第二保护片，以使第二保护片抵压第一安装座活动；

第一保护片的两端设有第一配合槽，第二保护片的两端设有第一配合条，第一保护片移动时第一配合槽的槽壁沿第一配合条移动，第二保护片移动时第一配合条沿第一配合槽的槽壁移动；或第一保护片设有第二配合条，第二保护片设有第二配合槽，第一保护片移动时第二配合条沿第二配合槽的槽壁移动，第二保护片移动时第二配合槽的槽壁沿第二配合条移动。

上述调节机构，通过调节件的设置，当需要调节微透镜阵列与曝光组件之间的位置关系时，调节多个调节件伸入调节箱的深度，使不同调节件抵压第一安装座、从而使第一安装座的位置发生变化，实现调整第一安装座上微透镜阵列位置的技术效果，从而使微透镜阵列的凹面点阵列与曝光组件的像素阵列一一对应，提高后续的图形曝光质量。

下面进一步对技术方案进行说明：