[发明专利]用于SiC高温氧化工艺的工艺腔室及热处理炉

权利要求书

1.一种用于SiC高温氧化工艺的工艺腔室，其特征在于，包括：

筒状隔热装置，内部具有封闭的隔热空间；

隔热板组件，包括多个沿竖直方向叠置在一起的隔热板；所述隔热板组件邻接设置在所述筒状隔热装置的上方；所述筒状隔热装置和所述隔热板组件通过配合使用而使所述工艺腔室内的温度在竖直方向上呈阶梯分布；以及

工艺舟，用于承载被加工工件；所述工艺舟邻接设置在所述隔热板组件的上方。

2.根据权利要求1所述的工艺腔室，其特征在于，所述筒状隔热装置包括：

石英筒，所述石英筒的上端和下端均为封闭端，内部形成封闭的所述隔热空间，且所述石英筒设有贯穿其上端和下端的穿孔；

石英管，所述石英管密封穿设在所述石英筒的所述穿孔内；以及

隔热材料，填充在所述石英管与所述石英筒之间的所述隔热空间内。

3.根据权利要求2所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室还包括舟装卸法兰，所述舟装卸法兰密封抵靠在所述石英筒的下端，用于支撑所述筒状隔热装置、所述隔热板组件和所述工艺舟并能升降移动，进气管密封穿设在所述舟装卸法兰上并与所述石英管的内部连通。

4.根据权利要求3所述的工艺腔室，其特征在于，所述石英筒的下端设有过滤孔，所述过滤孔将所述隔热空间与所述石英筒的外部连通，且所述过滤孔内设有过滤器；

所述舟装卸法兰内设有夹层管路，所述夹层管路的一端与所述过滤孔连通，所述夹层管路的另一端与第二抽气装置连通。

5.根据权利要求4所述的工艺腔室，其特征在于，所述石英筒的下端与所述舟装卸法兰之间设置有第四密封圈，所述第四密封圈环绕在所述过滤孔周围。

6.根据权利要求5所述的工艺腔室，其特征在于，所述石英筒的下端与所述舟装卸法兰之间还设置有第五密封圈，并且所述石英管的下端开口、所述过滤孔和所述第四密封圈均位于所述第五密封圈环绕的密封区域内。

7.根据权利要求2所述的工艺腔室，其特征在于，所述隔热板组件设置有贯穿每个所述隔热板厚度的通气孔，且所述通气孔与所述石英管的内部连通，用于将工艺气体输送至所述工艺舟所在区域。

8.根据权利要求3所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室还包括：

工艺管体，所述工艺管体的上端封闭，下端敞开；所述工艺管体的轴向竖直设置；

内筒体，所述内筒体的上端和下端均敞开，且同轴设置在所述工艺管体内部；所述内筒体与所述工艺管体之间形成环形间隙；所述筒状隔热装置、所述隔热板组件和所述工艺舟能升入到所述内筒体内部；以及

工艺管法兰，为环形结构；所述工艺管法兰与所述工艺管体的下端和所述内筒体的下端均密封连接；所述工艺管法兰的顶面设有向下凹陷的环形气槽，所述环形气槽与所述环形间隙对接连通；所述工艺管法兰内设有与所述环形气槽连通的横向气道，所述横向气道与第一抽气装置连通。

9.根据权利要求8所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺管法兰对接安装在炉筒法兰上；所述炉筒法兰为环形结构，固定安装在工艺管体上，所述炉筒法兰位于所述工艺管法兰的上方并围绕在所述工艺管体的外侧周围；

所述工艺管法兰的顶面设有向上突出的环形凸缘，所述环形凸缘环绕在所述工艺管体的外侧周围；并且，在所述炉筒法兰的下表面设置有环形凹槽，所述环形凸缘伸入到所述环形凹槽中；

所述环形凸缘的上表面、所述环形凹槽的与所述环形凸缘的上表面相对的表面以及所述工艺管体的外周壁共同构成环形空间，所述环形空间内设有第一密封圈。

10.根据权利要求9所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺管法兰与所述炉筒法兰内均设有环形冷却水道。