[发明专利]一种靶管检漏装置及检漏方法

说明书

本发明公开一种靶管检漏装置及检漏方法，涉及靶管气密性检漏技术领域，为检查靶管气密性而设计。所述靶管检漏装置包括：气体导入件，所述气体导入件用于向靶管内通入检测气体，所述气体导入件包括：储气罐，储气罐通过第一导通管与所述靶管连通，第一导通管上安装有第一控制阀；增压件，所述增压件用于增大所述靶管内的压强，所述增压件包括：气体压缩机，气体压缩机通过第二导通管与所述靶管连通，所述第二导通管上安装有第二控制阀；气体检漏仪，所述气体检漏仪用于对所述靶管进行检漏。本发明将靶管检漏装置及检漏方法用于检测靶管是否存在漏点。

技术领域

本发明涉及靶管气密性检漏技术领域，尤其涉及一种靶管检漏装置及检漏方法。

背景技术

物理气相沉积真空镀膜设备(简称PVD设备)在抽真空之前，需要对靶管的气密性进行检漏，现有的检漏方法大概有两种，一种为在靶管安装完成后，PVD设备抽真空前，通过靶管的冷却水管路向靶管内注入水，通过检测靶管密封处是否有水滴渗出，以确定靶管上的漏点位置；另一种为在靶管安装完成后先不进行检漏，具体在PVD设备抽真空作业时，向靶管通入检测气体进行检漏。上述两种检漏方法均存在不足，若采用第一种方法检漏时，若漏点尺寸较小，则渗出的水滴很小，这样就很难发现水滴，进而造成遗漏，且若漏点尺寸较小时，形成水滴需要较长的时间或很难形成水滴，也容易造成遗漏，最终使PVD设备在真空环境下作业时靶管出现漏水，所漏水影响镀膜效果，影响产品质量，或者导致需要对PVD设备二次开腔维护，增加成本延误生产周期，若靶管在工作过程中漏水，就会造成PVD设备的真空腔内混入杂质气体，造成镀膜环境变化，镀出的膜层性质改变，要达到原有的膜层性质，需要调整镀膜参数来实现原有的膜层性质，或者即使调整参数也达不到原有的膜层性质，进而增加调试难度；采用第二种方法检漏时，若有漏点，需要对P VD设备破真空维护，同样增加维护费用。

发明内容

本发明的实施例提供一种靶管检漏装置及检漏方法，主要目的是在靶管安装完成后，设备抽真空前就可完成靶管的检漏，提高了检漏的精确性。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种靶管检漏装置，包括：

气体导入件，所述气体导入件用于向靶管内通入检测气体，所述气体导入件包括：储气罐，所述储气罐通过第一导通管与所述靶管连通，所述第一导通管上安装有第一控制阀；

增压件，所述增压件用于增大所述靶管内的压强，所述增压件包括：气体压缩机，所述气体压缩机通过第二导通管与所述靶管连通，所述第二导通管上安装有第二控制阀；

气体检漏仪，所述气体检漏仪与所述靶管连通。

本发明实施例提供的靶管检漏装置，通过气体导入件向靶管内通入检测气体，同时，为了提高检漏的精确度，采用增压件增大靶管内的压强，将靶管还原至工作状态，再通过气体检漏仪对靶管检漏，以精确测量靶管是否存在漏点、漏点的位置，以及漏率的大小，尤其是该靶管检漏装置是在靶管安装完成后，设备抽真空前对靶管进行检漏，这样避免遗漏时造成设备破真空维护的现象。

可选的，所述第一导通管和所述第二导通管均与第三导通管连通，所述第三导通管通过第一连通阀连通于所述靶管，且所述第一连通阀中用于连通所述第三导通管的阀口上安装有第三控制阀。

可选的，所述靶管检漏装置还包括：气压检测元件，所述气压检测元件安装在所述第三导通管上，用于检测所述靶管内的压强。

可选的，所述靶管检漏装置还包括：气体导出件，所述气体导出件用于排泄所述靶管内的气体，所述气体导出件包括与所述靶管连通的泄压管，所述泄压管连通于所述第三导通管。

可选的，所述靶管检漏装置还包括：控制器，所述控制器用于向靶管内通入的氦气量，和用于控制所述靶管内的压强，所述第一控制阀和所述第二控制阀为电控阀，且所述控制器与所述第一控制阀和所述第二控制阀连接。