[发明专利]一种面板玻璃电镀膜层的退镀工艺

权利要求书

1.一种面板玻璃电镀膜层的退镀工艺，包括以下步骤：

A)将面板玻璃浸入退镀液A中，退镀FGAR膜层和油墨层；

以质量分数计，所述退镀液A的成分如下：

氢氧化钾10～12％，四氢糠醇5～8％，乙二胺四乙酸4～7％，五水偏硅酸钠2～5％，羟基乙叉二磷酸4～8％，三乙醇胺6～10％，烷基糖苷0.1～0.5％，异辛醇醚磷酸酯0.1～0.5％，余量为水；

B)将所述步骤A)得到的面板玻璃浸入退镀液B中，退镀PVD膜层；

以质量分数计，所述退镀液B的成分如下：

氢氧化钾18～25％，葡萄糖酸钠2～6％，柠檬酸钠4～10％，乙二胺四乙酸四钠2～6％，焦磷酸钾2～8％，五水硅酸钠0.5～2％，三乙醇胺4～10％，甘油1～2％，余量为水；

所述PVD膜层和油墨层镀在所述面板玻璃的同一面；

所述PVD膜层为SiO₂与混合物交替电镀得到，所述PVD膜层中的SiO₂与所述面板玻璃接触；

所述混合物为Si₃N₄和H₄Si；

所述FGAR膜层整镀所述面板玻璃的另一面；

所述FGAR膜层为SiO₂与Si₃N₄交替电镀得到，所述FGAR膜层中的SiO₂与所述面板玻璃接触。

2.根据权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述PVD膜层的厚度为2500～3000nm。

3.根据权利要求2所述的退镀工艺，其特征在于，所述FGAR膜层的厚度为200～400nm。

4.根据权利要求1～3任一项所述的退镀工艺，其特征在于，以质量分数计，所述退镀液A的成分如下：

氢氧化钾11％，四氢糠醇6％，乙二胺四乙酸6％，五水偏硅酸钠3％，羟基乙叉二磷酸6％，三乙醇胺8％，烷基糖苷(APG)0.3％，异辛醇醚磷酸酯0.3％，余量为水。

5.根据权利要求1～3任一项所述的退镀工艺，其特征在于，以质量分数计，所述退镀液B的成分如下：

氢氧化钾20％，葡萄糖酸钠4％，柠檬酸钠6％，乙二胺四乙酸四钠4％，焦磷酸钾4％，五水硅酸钠1％，三乙醇胺6％，甘油1％，余量为水。

6.根据权利要求4所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤A)中退镀的温度为92～98℃；

所述步骤A)中退镀的时间为60～100min。

7.根据权利要求6所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤A)中退镀的温度为95℃；

所述步骤A)中退镀的时间为60min。

8.根据权利要求7所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤B)中退镀的温度为92～98℃；

所述步骤B)中退镀的时间为40～80min。

9.根据权利要求8所述的退镀工艺，其特征在于，所述步骤B)中退镀的温度为95℃；

所述步骤B)中退镀的时间为60min。

10.根据权利要求4所述的退镀工艺，其特征在于，所述油墨层由以下重量份数的组分制备得到：

A组分

环氧树脂：60份；

硫酸钡：10份；

滑石粉：10份；

炭黑：5份；

KH560偶联剂：2份；

稀释剂：10份；

气相二氧化硅：1份；

消泡剂：1份；

分散剂：0.5份；

流平剂：0.5份；

B组分

酸酐类固化剂：6份；

或者

胺类固化剂：10份；

所述油墨层的厚度为20±2μm。