[发明专利]阵列基板

说明书

一种阵列基板，具有一显示区及一电路区。阵列基板包括一金属层、一平坦层、一第一保护层以及一导电层。平坦层位于金属层上。第一保护层位于平坦层上，第一保护层具有一开口部，开口部位于显示区内，且开口部露出平坦层而未露出金属层。导电层位于第一保护层上并填入开口部中，以覆盖开口部露出的平坦层。

技术领域

本公开涉及一种阵列基板，且特别涉及一种可维持显示区内稳定的电性的阵列基板。

背景技术

显示面板中搭载有许多的半导体元件，这些半导体元件尤其是存在于阵列基板中。在显示面板的制造过程中，其环境气氛中常富含水气。一旦工艺环境中的水气过多，容易对这些元件产生对电性的不利影响。因此，如何维持阵列基板中半导体元件的稳定电性，遂成为业界努力的方向之一。

发明内容

本公开涉及一种阵列基板，具有一开口部。平坦层仅从此开口部而暴露于工艺环境中，适量的水气可于工艺期间进入平坦层，以提升阵列基板中半导体元件的电性。

根据本公开的一方面，提出一种阵列基板。阵列基板具有一显示区及一电路区。阵列基板包括一金属层、一平坦层、一第一保护层以及一导电层。平坦层位于金属层上。第一保护层位于平坦层上，第一保护层具有一开口部，开口部位于显示区内，且开口部露出平坦层而未露出金属层。导电层位于第一保护层上并填入开口部中，以覆盖开口部露出的平坦层。

为了对本公开的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例，并配合所附附图详细说明如下：

附图说明

图1是本公开一实施例的显示面板的上视图。

图2A和图2B是之前实验的阵列基板的剖视图。

图3A和图3B分别绘示图2A和图2B的主动元件的电性测试曲线图。图4是图1中沿切线4-4’的剖视图。

图5A是本公开一实施例的阵列基板的上视图。图5B是图5A中沿切线5B-5B’的剖视图。

图6A是本公开另一实施例的阵列基板的上视图。图6B是图6A中沿切线6B-6B’的剖视图。

其中，附图标记说明如下：

1：显示面板

10、20、30、40、50：阵列基板

100：基底

110：栅极

111、SLn、SLn+1：扫描线

112、CH1、CH2：沟道层

113、DLn、DLn+1：数据线

114：源极

116、D1：漏极

120、220、320、420、520：平坦层

122、222、322、422、522：接触窗开口

130、230、330、430、530：第一保护层

132、232、332、432：中央开口

134、234、334：开口部

140：导电层

150、250、350：第二保护层

240、342、440、540、PE：像素电极

260：反射层

341：共用电

532：偏移开口

GI：栅绝缘层