[发明专利]基于纳米SnS材料的光探测器及其制备方法在审
申请号: | 201810775948.2 | 申请日: | 2018-07-16 |
公开(公告)号: | CN109103279A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 张晗;谢中建;黄卫春 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/09;H01L31/18 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工作电极 光探测器 对电极 导电基 半导体层 材料分散 制备 电解液 均匀涂布 有机溶剂 量子点 纳米片 二维 封装 | ||
1.一种基于纳米SnS材料的光探测器,其特征在于,包括工作电极、对电极以及设于所述工作电极和所述对电极之间的电解液,所述工作电极包括导电基底和设置在所述导电基底朝向所述对电极的一侧上的半导体层,所述半导体层的材料包括纳米SnS材料,所述纳米SnS材料包括二维SnS纳米片和SnS量子点中的至少一种。
2.如权利要求1所述的光探测器,其特征在于,所述二维SnS纳米片的厚度为1-10nm,所述二维SnS纳米片的长宽尺寸为50-200nm。
3.如权利要求1所述的光探测器,其特征在于,所述SnS量子点的尺寸小于或等于10nm。
4.如权利要求1所述的光探测器,其特征在于,所述半导体层还包括高分子材料,所述高分子材料与所述纳米SnS材料均匀分布在所述半导体层中,所述高分子材料包括聚偏氟乙烯和纤维素中的至少一种。
5.如权利要求4所述的光探测器,其特征在于,所述高分子材料与所述纳米SnS材料的质量比为1:10-1:100。
6.如权利要求1所述的光探测器,其特征在于,所述电解液包括碱性电解液或中性电解液。
7.如权利要求1所述的光探测器,其特征在于,所述电解液的浓度为0.1mol/L-1mol/L。
8.一种基于纳米SnS材料的光探测器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供SnS原料,采用液相剥离的方法对所述SnS原料进行剥离,得到纳米SnS材料,所述纳米SnS材料包括二维SnS纳米片和SnS量子点中的至少一种;
将所述纳米SnS材料分散在有机溶剂中形成纳米SnS材料分散液,将所述纳米SnS材料分散液均匀涂布在导电基底上,干燥后,在所述导电基底上形成半导体层,得到工作电极;
提供对电极,组装所述工作电极和所述对电极,使所述工作电极和所述对电极形成中间有空腔的三明治结构;然后向所述空腔中注入电解液,经封装后得到基于纳米SnS材料的光探测器。
9.如权利要求8所述的光探测器的制备方法,其特征在于,所述液相剥离的方法具体包括以下操作:
将所述SnS原料加入至溶剂中,在冰浴环境下采用探头超声4-10h;所述探头超声结束后,继续采用水浴超声,所述水浴超声时间为5-12h,所述水浴的温度保持10-15℃;水浴超声后,进行离心和干燥得到纳米SnS材料。
10.如权利要求8所述的光探测器的制备方法,其特征在于,所述工作电极的具体制备方法包括:
提供高分子材料,将所述高分子材料溶解在所述有机溶剂中,然后将所述纳米SnS材料分散在含有所述高分子材料的所述有机溶剂中,形成纳米SnS材料分散液,将所述纳米SnS材料分散液均匀涂布在所述导电基底上形成半导体层,干燥后得到所述工作电极。
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