[发明专利]薄膜、薄膜太阳能电池及其制备方法

权利要求书

1.一种薄膜的制备方法，其特征在于，包括：

采用涂覆工艺在树脂膜层的表面上形成第一覆盖层，使第一覆盖层将树脂膜层的表面的表孔封盖；

采用沉积工艺在所述第一覆盖层上形成无机材料的第二覆盖层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，

采用有机硅涂覆液覆盖所述树脂膜层的表面，对覆盖所述树脂膜层的表面的有机硅涂覆液烘干后形成第一覆盖层。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

所述有机硅涂覆液由下述方法制备：

正硅酸乙酯TEOS、水、氯化氢和乙醇的混合物在50-80摄氏度下回流得到硅溶液；

将所述硅溶液溶于添加乳化剂的乙醇溶液制备有机硅涂覆液。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

所述烘干的温度在60-120摄氏度，所述烘干的时间在1-5小时。

5.根据权利要求1-4中任一所述的制备方法，其特征在于，

所述涂覆工艺为旋涂玻璃SOG工艺；

所述沉积工艺为原子层沉积ALD工艺。

6.根据权利要求1-4中任一所述的制备方法，其特征在于，

所述树脂膜层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯PET或聚萘二甲酸乙二醇酯PEN或聚甲基丙烯酸甲酯PMMA或聚丙烯PP或聚酰胺PA或聚对苯二甲酸四次甲基酯PBT或聚酰亚胺PI或尼龙；

所述第二覆盖层的无机材料为Al₂O₃或TiN或TiO₂。

7.一种薄膜，其特征在于，包括：

树脂膜层；

第一覆盖层，封盖所述树脂膜层的表面的表孔；

无机材料的第二覆盖层，设置于所述第一覆盖层。

8.根据权利要求7所述的薄膜，其特征在于，

所述薄膜采用上述权利要求1-6中任一所述的方法制备；

所述第一覆盖层的厚度在10-1000nm；

所述第二覆盖层的厚度在10-100nm。

9.一种薄膜太阳能电池表面膜层，其特征在于，包括：

含氟膜，含氟膜的材质为乙烯-四氟乙烯共聚物ETFE或聚氟乙烯PVF或聚偏二氟乙烯PVDF；

薄膜，所述薄膜采用上述权利要求7-8中任一所述的薄膜，所述薄膜与所述含氟膜贴合。

10.一种薄膜太阳能电池，其特征在于，包括：

权利要求9所述的薄膜太阳能电池表面膜层；

衬底层；

电池核心层，位于所述薄膜太阳能电池表面膜层与所述衬底层之间，所述含氟膜外露。