[发明专利]可见光探测装置及方法

权利要求书

1.一种可见光探测装置，其特征在于，包括：

探测模块，用于探测待测可见光的光学参数并吸收部分所述待测可见光，所述光学参数至少包括波长；

其中，所述探测模块包括腔体，所述腔体由半反射镜和全反射镜相对形成，所述全反射镜位于所述腔体内部的表面覆盖有可吸收部分所述待测可见光的石墨烯膜；

所述探测模块通过在所述待测可见光在所述腔体内处于预设传播状态时，测得所述光学参数；

所述装置还包括：

控制模块，用于控制所述腔体的腔长，使所述待测可见光改变传播状态；所述腔长为所述半反射镜和全反射镜之间的距离；

处理模块，用于根据所述待测可见光的类型以及所述探测模块所探得的光学参数，存储所述待测可见光；

所述预设传播状态为谐振状态；

所述探测模块用于在所述待测可见光处于谐振状态时，测得所述谐振状态对应的腔长，所述谐振状态对应的腔长为所述待测可见光的波长；

所述探测模块包括微机电子模块；

所述微机电子模块用于检测所述腔体的腔长，以及检测在所述石墨烯膜接有外加恒定电压时经过所述石墨烯膜的电流并得到所述电流的波形图；

所述探测模块用于根据所述波形图，确定所述待测可见光处于谐振状态；

其中，在一连续腔长变化范围内，所述波形图的波峰值的位置处为所述待测可见光的谐振状态；

所述控制模块通过所述微机电子模块控制所述全反射镜移动，控制所述腔体的腔长。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述光学参数还包括功率；

所述探测模块通过在所述石墨烯膜接有外加恒定电压时，根据所述待测可见光经过所述石墨烯膜的电流与预设电流值，确定所述待测可见光的功率；

所述预设电流值为单位功率的可见光经过所述石墨烯膜的电流值。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

光学收集模块，用于使所述待测可见光入射至所述探测模块，所述光学收集模块包括至少两个聚光透镜。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述处理模块用于：

根据所述待测可见光的类型，确定存储内容以及存储形式，并存储所述待测可见光；

可见光的类型包括图像、视频、信号和/或光谱。

5.一种可见光探测方法，应用于如权利要求1至4任一项所述的可见光探测装置，其特征在于，包括：

控制所述可见光探测装置的探测模块包括的腔体的腔长，使待测可见光改变传播状态；

在所述待测可见光在所述腔体内处于预设传播状态时，测得所述光学参数；

根据所述待测可见光的类型以及所述探测模块所探得的光学参数，存储所述待测可见光；

所述预设传播状态为谐振状态；

所述探测模块用于在所述待测可见光处于谐振状态时，测得所述谐振状态对应的腔长，所述谐振状态对应的腔长为所述待测可见光的波长；

所述探测模块包括微机电子模块；

所述微机电子模块用于检测所述腔体的腔长，以及检测在所述石墨烯膜接有外加恒定电压时经过所述石墨烯膜的电流并得到所述电流的波形图；

所述探测模块用于根据所述波形图，确定所述待测可见光处于谐振状态；

其中，在一连续腔长变化范围内，所述波形图的波峰值的位置处为所述待测可见光的谐振状态；

所述控制模块通过所述微机电子模块控制所述全反射镜移动，控制所述腔体的腔长。

6.一种电子设备，其特征在于，包括存储器、处理器、总线以及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现如权利要求5中所述的可见光探测方法中的步骤。

7.一种非暂态计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于：所述程序被处理器执行时实现如权利要求5中所述的可见光探测方法中的步骤。