[发明专利]用于原位制备显微镜样本的方法

权利要求书

1.一种用于原位制备显微镜样本的方法，所述方法借助粒子束设备实施，所述粒子束设备包括：

-用于产生聚焦的带电粒子束的粒子束柱；

-用于承接样本块的样本支座；

-用于探测粒子束与样本材料之间相互作用的相互作用产物的探测器，

其中，所述方法包括步骤：

a)提供样本块，所述样本块具有裸露的并且包括感兴趣的样本区域(ROI)的结构；

b)通过粒子束的作用在裸露结构中产生弯折棱边，从而使裸露结构的至少一部分朝向入射的粒子束变形；

c)移动承接样本块的样本支座，使得包括在变形结构中的样本区域能够在粒子束设备中被观察和/或被加工。

2.按权利要求1所述的方法，其中，所述方法包含附加的步骤：

借助粒子束设备观察和/或加工感兴趣的样本区域(ROI)。

3.按权利要求1或2所述的方法，其中，产生弯折棱边包括：

预设裸露结构的变形的期望程度并且产生期望的变形。

4.按权利要求1所述的方法，其中，重复地产生弯折棱边，从而使显微镜样本具有多个弯折棱边。

5.按权利要求1所述的方法，其中，所述方法具有步骤：

通过施加沉淀物使弯折棱边的形状稳定。

6.按权利要求1所述的方法，其中，粒子束设备包括用于产生聚焦的离子束的离子束柱。

7.按权利要求1所述的方法，其中，粒子束设备设计为多束设备，所述多束设备包括用于产生聚焦的离子束的离子束柱和用于产生聚焦的电子束的电子束柱。

8.按权利要求1所述的方法，其中，粒子束设备包括用于产生聚焦的电子束的电子束柱以及用于导入腐蚀气体的气体注射系统，其中通过电子束和腐蚀气体的作用产生弯折棱边。

9.按权利要求1所述的方法，其中，提供裸露结构包括涂层的沉积。

10.按权利要求9所述的方法，其中，所述涂层具有铂。

11.按权利要求10所述的方法，其中，通过腐蚀使裸露结构从样本块中暴露出来。

12.按权利要求11所述的方法，其中，为了进行腐蚀，输入XeF₂前体物。

13.按权利要求10至12之一所述的方法，其中，

提供样本块，其中，所述感兴趣的样本区域具有颗粒，所述颗粒处于样本块的表面上；并且所述颗粒通过施加沉积物嵌入沉积材料中；并且将沉积物钻蚀，从而使具有颗粒的沉积物形成裸露结构；

并且其中，在沉积物中产生弯折棱边。

14.按权利要求1所述的方法，其中，显微镜样本是TEM薄片。

15.按权利要求1所述的方法，其中，显微镜样本是断层摄影样本。

16.按权利要求1所述的方法，其中，所述裸露结构设计为电子构件的印制导线。

17.按权利要求1所述的方法，其中，粒子束设备包括电子束柱和STEM探测器并且感兴趣的样本区域对于电子是透明的；

并且其中，所述方法具有以下步骤，即，通过来自电子束柱的电子透射感兴趣的样本区域，其中，由此产生的相互作用产物通过STEM探测器探测。