[发明专利]一种W靶材的修复方法

权利要求书

1.一种W靶材的修复方法，其特征在于：将待修复的W靶材放入石墨模具中，然后加入修复所需的W粉，使W粉位于W靶材的待修复表面上，预压后，再放入放电等离子烧结系统中进行烧结连接，使W粉填充在W靶材待修复表面的不平整缺陷区域，即完成W靶材的修复；所修复的W靶材直径大于20mm、长径比为0.05～1.0；

具体包括以下步骤：

步骤1、对待修复的W靶材的待修复表面进行清理，以去除杂质和氧化层，然后利用阿基米德排水法计算出填补W靶材待修复表面的不平整缺陷区域所需W粉的体积；

称取相应体积的氧含量低于500ppm、纯度为99.7％、粒径在2.8～3.2μm之间的W粉备用；

步骤2、将清理后的W靶材放入相对应尺寸的石墨模具中，再加入W粉，并使W粉位于W靶材的待修复表面上；采用手动液压机对装好W靶材和W粉的石墨模具进行预压，压力在8～12MPa；

步骤3、在预压后石墨模具外围裹上与石墨模具等高的4～6mm厚的碳毡，再将其置于放电等离子烧结系统的炉腔中，抽真空至5Pa以下，对W粉和W靶材进行烧结连接，烧结工艺为：

轴向机械压力采用梯度加压的方式：当温度＜1500℃时，轴向压力为10MPa；当温度≥1500℃时，轴向压力为30～40MPa；

升温速率：在室温至1300℃区间为30～60℃/min，1300℃以上为10～30℃/min；

烧结温度：1800～2000℃，

保温时间：5～10min；

随炉冷却后，打磨光滑，即完成W靶材的修复，获得修复后W靶材。