[发明专利]彩膜基板的制作方法有效
申请号: | 201810748566.0 | 申请日: | 2018-07-10 |
公开(公告)号: | CN108919547B | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 易天华 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G03F7/004 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 制作方法 | ||
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在所述基板上,形成光阻层,所述光阻层包括预设着色材料,所述光阻层包括第一区域、第二区域以及第三区域;
对所述第一区域、所述第二区域以及所述第三区域中的所述预设着色材料,进行多次曝光操作,使所述第一区域透射第一预设光、所述第二区域透射第二预设光、所述第三区域透射第三预设光;
其中,当所述预设着色材料包括第一官能团、第二官能团以及第三官能团,所述第一官能团用于吸收第一预设光,所述第二官能团用于吸收第二预设光,所述第三官能团用于吸收第三预设光时,所述对所述第一区域、所述第二区域以及所述第三区域中的所述预设着色材料,进行多次曝光操作,使所述第一区域透射第一预设光,所述第二区域透射第二预设光,所述第三区域透射第三预设光步骤包括:
对所述第一区域进行曝光操作,分解位于所述第一区域的所述第一官能团;
对所述第二区域进行曝光操作,分解位于所述第二区域的所述第二官能团;
对所述第三区域进行曝光操作,分解位于所述第三区域的所述第三官能团;
当所述预设着色材料包括第一添加剂材料、第二添加剂材料、第三添加剂材料以及第四添加剂材料时,所述对所述第一区域、所述第二区域以及所述第三区域中的所述预设着色材料,进行多次曝光操作,使所述第一区域透射第一预设光,所述第二区域透射第二预设光,所述第三区域透射第三预设光步骤包括:
对所述第一区域和所述第二区域进行曝光操作,使位于所述第一区域和所述第二区域的所述第三添加剂材料和所述第四添加剂材料生成第一目标官能团,所述第一目标官能团吸收第三预设光;
对所述第一区域和所述第三区域进行曝光操作,使位于所述第一区域和所述第三区域的所述第二添加剂材料和所述第四添加剂材料生成第二目标官能团,所述第二目标官能团吸收第二预设光;
对所述第二区域和所述第三区域进行曝光操作,使位于所述第二区域和所述第三区域的所述第一添加剂材料和所述第四添加剂材料生成第三目标官能团,所述第三目标官能团吸收第一预设光。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第一预设光为红光,所述第一官能团包括NH2和氧双键。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第二预设光为绿光,所述对所述第二区域进行曝光操作,分解位于所述第二区域的所述第二官能团步骤包括:
若所述第二区域包括则分解所述第二区域中的
4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第三预设光为蓝光,所述第三官能团包括
5.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第一添加剂材料包括:
6.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第二添加剂材料包括:
7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第三添加剂材料包括:
8.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述第四添加剂材料包括:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810748566.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。