[发明专利]一种蒽醌法生产过氧化氢工艺的后处理装置

权利要求书

1.一种蒽醌法生产过氧化氢工艺的后处理装置，包括碱塔及白土床，所述碱塔包括顶部设有工作液出口的塔壳，其特征在于：

所述塔壳上安装有塔帽组件；所述塔帽组件包括内导流筒，套装在所述内导流筒外的气液分离筒与外导流筒，套装在所述外导流筒外的沉降筒，及顶部设有排气口的帽壳；所述气液分离筒位于所述外导流筒的上方；

所述内导流筒的下端口与所述工作液出口对接连通地固设在所述塔壳上；所述气液分离筒的下端口与所述外导流筒的上端口对接连通，且上端为端面高于所述内导流筒的敞口端，所述气液分离筒与所述内导流筒间填装有上表面低于所述内导流筒的上筒口的第一填料层；

所述外导流筒的下端部设有与所述沉降筒的内腔室连通的出液孔；所述沉降筒与所述外导流筒间填装有下表面高于所述出液孔的第二填料层，位于所述出液孔下方的部分内腔室构成碳酸钾溶液沉降室；所述沉降筒与所述帽壳围成环绕所述沉降筒的周围布置的集液室，所述沉降筒的上端口低于所述敞口端；所述帽壳上设有与所述白土床通过管道连接的集液室出口;所述第二填料层低于所述第一填料层。

2.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于：

所述碳酸钾溶液沉降室的底部连接有排碱管道，用于将沉降的碳酸钾溶液输送至位于碱塔底部处的碳酸钾溶液存储室。

3.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于：

所述沉降筒的上端部套装在所述气液分离筒的下端部外，且二者在径向上间隔布置而形成溢流口。

4.根据权利要求3所述的后处理装置，其特征在于：

所述碳酸钾溶液沉降室的底部连接有排碱管道，用于将沉降的碳酸钾溶液输送至位于碱塔底部处的碳酸钾溶液存储室。

5.根据权利要求1至4任一项权利要求所述的后处理装置，其特征在于：

多个所述出液孔沿所述外导流筒的周向均匀布置。

6.根据权利要求5所述的后处理装置，其特征在于：

所述帽壳包括外径大于所述塔壳的基筒体及可拆卸地安装在所述基筒体的上端口上的封头；

所述基筒体的下端部套装在所述塔壳的上端部外，且下端口与所述塔壳间为水密地固定连接。

7.根据权利要求5所述的后处理装置，其特征在于：

所述塔壳的顶部为锥台型壳部，所述锥台型壳部的小径端口构成所述工作液出口；所述外导流筒的内径与所述工作液出口等径地固接在所述小径端口上，所述外导流筒的下端固接在所述锥台型壳部上。

8.根据权利要求1至4任一项权利要求所述的后处理装置，其特征在于：

所述帽壳包括外径大于所述塔壳的基筒体及可拆卸地安装在所述基筒体的上端口上的封头；

所述基筒体的下端部套装在所述塔壳的上端部外，且下端口与所述塔壳间为水密地固定连接。

9.根据权利要求8所述的后处理装置，其特征在于：

所述排气口位于所述封头的中央区域上。

10.根据权利要求8所述的后处理装置，其特征在于：

所述基筒体的内壁上固设有内筒体，所述内筒体与所述基筒体之间围成所述集液室；

所述基筒体位于所述内筒体之下的筒体与所述内筒体连接构成所述沉降筒。

11.根据权利要求10所述的后处理装置，其特征在于：

所述内筒体的上端面为锯齿状溢流面，所述锯齿状溢流面中的齿槽沿所述内筒体的周向均匀布置。

12.根据权利要求1至4任一项权利要求所述的后处理装置，其特征在于：

所述气液分离筒包括用于填装所述第一填料层的大径筒部及对接地固设在所述大径筒部的下端部上的倒锥形筒部，所述外导流筒的上筒口与所述倒锥形筒部的小径端口部对接地固定连接；

所述第一填料层与所述第二填料层均为规整填料层。