[发明专利]电致变色结构及其制作方法、电子设备

权利要求书

1.一种电致变色结构的制作方法，其特征在于，包括：

在第一衬底的一侧形成第一导电层；

形成离子储存层，所述离子储存层形成在所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧，并覆盖所述第一导电层的部分区域，所述离子储存层是通过在所述第一导电层上设置界定结构，并在所述界定结构限定出的预定区域中，设置离子储存层材料而实现的；

在第二衬底的一侧形成第二导电层；

形成电致变色层，所述电致变色层形成在所述第二导电层远离所述第二衬底的一侧；

在形成有所述离子储存层的所述第一衬底和形成有所述电致变色层的所述第二衬底之间形成电解质层并贴合所述第一衬底以及所述第二衬底，以便形成所述电致变色结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述界定结构覆盖所述第一导电层上除所述预定区域以外的部分。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述界定结构具有均一的高度，形成所述离子储存层进一步包括：控制所述离子储存层的高度，与所述界定结构的高度相符。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述界定结构仅覆盖所述第一导电层上非预定区域的一部分。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，形成所述离子储存层进一步包括：在设置所述离子储存层材料之前，在所述第一导电层上设置掩膜，以覆盖所述非预定区域中暴露在外的部分。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，形成所述电解质层包括：

在所述电解质层与所述离子储存层相接触一侧的表面，且与所述非预定区域中暴露在外的部分相对应的位置形成凸起，所述凸起的高度与所述界定结构的高度相符。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述界定结构是由绝缘胶形成的。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在贴合所述第一衬底以及所述第二衬底之后，形成所述电致变色结构之前，进一步包括：形成图案保护层，形成所述图案保护层是通过以下步骤实现的：

在第三衬底的一侧形成图案层；

将形成有所述图案层的所述第三衬底胶黏在所述第一衬底远离所述第一导电层的一侧，所述图案层与所述第一衬底相接触，或者，将形成有所述图案层的所述第三衬底胶黏在所述第二衬底远离所述第二导电层的一侧，所述图案层与所述第二衬底相接触。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第三衬底是由透明材料形成的。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，与所述图案层相接触的所述第一衬底或所述第二衬底是由透明材料形成的。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，与所述图案层相接触的所述第一衬底或所述第二衬底是由薄片玻璃或聚酰亚胺形成的。

12.一种电致变色结构，其特征在于，包括：

第一衬底；

第一导电层，所述第一导电层设置在所述第一衬底的一侧；

离子储存层，所述离子储存层设置在所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧，并覆盖所述第一导电层被界定结构限定出的预定区域；

电解质层，所述电解质层设置在所述离子储存层远离所述第一导电层的一侧；

电致变色层，所述电致变色层设置在所述电解质层远离所述离子储存层的一侧；

第二导电层，所述第二导电层设置在所述电致变色层远离所述电解质层的一侧；

第二衬底，所述第二衬底设置在所述第二导电层远离所述电致变色层的一侧；

其中，

所述第一导电层的非预定区域，被所述界定结构覆盖，或被所述界定结构以及所述电解质层覆盖。

13.根据权利要求12所述的电致变色结构，其特征在于，所述离子储存层的高度与所述界定结构的高度相符。