[发明专利]表面带有镀层的贵金属制品及其制备方法

权利要求书

1.一种贵金属制品，其特征在于，该贵金属制品包括：贵金属基体(1)和附着在贵金属基体(1)表面的物理气相沉积层(2)，所述贵金属为黄金或者银。

2.根据权利要求1所述的贵金属制品，其中，贵金属基体(1)中黄金的含量为33-99.99重量％，优选99-99.99重量％，银的含量为92.5-99重量％。

3.根据权利要求1或2所述的贵金属制品，其中，物理气相沉积层(2)的厚度为10nm-50μm；物理气相沉积层(2)的材质为Ni、Ti、Zn、Cr、Mg、Nb、Sn、Al、In、Fe、Zr、Si、Cu、Ta、Ge、Ag、Co、Au、Gd、La、Y、Ce、W、Hf、Mo、CrN、TiN、TiAlCN、TiCN、TiAlN、AlTiN、TiB₂、ZrN、FeCo、AlSi、TiSi、CrSi、ZnAl、TiZn、TiAl、TiZr、TiSi、TiNi、NiAl、NiV、NiFe、金铜合金和DLC中的一种或多种，优选为金铜合金。

4.根据权利要求1或2所述的贵金属制品，其中，所述贵金属基体(1)的表面粗糙度为0.001μm-50μm，优选0.005μm-0.2μm。

5.一种贵金属制品的制备方法，其特征在于，该方法包括：采用物理气相沉积在贵金属基体(1)表面附着物理气相沉积层(2)。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其中，物理气相沉积的条件使得物理气相沉积层(2)的厚度为10nm-50μm。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其中，物理气相沉积的方式为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜或真空离子镀膜，优选为真空离子镀膜；其中，真空离子镀膜的步骤包括：贵金属基体(1)在真空条件下放置，之后对贵金属基体(1)进行加热，启动金属靶，并注入气体，加载偏压，在贵金属基体(1)的表面进行镀膜；

其中，贵金属基体(1)在真空条件下放置时，真空度为1×10^-2Pa至7×10^-3Pa；

注入气体后，真空度为1×10^-2Pa至9.5×10^-1Pa，加热温度为50-260℃，镀膜时间为2-2000min；

所述金属靶所采用的材质选自镍、锌、镁、锡、铁、铬、硅、铜、钛、锆、钼、钨、铝、铌、铟、钽、锗、银、金、钴、钆、镧、钇、铈、铪、钨、金铜合金、不锈钢及其合金或者氧化物、氮化物、碳化物、氟化物、硫化物、硼化物中的至少一种，优选为金铜合金；

气体包括保护气体和调色气体，所述保护气体为惰性气体，所述调色气体选自氮气、乙炔、甲烷和氧气中的一种或多种；其中，所述保护气体的气体流量为20-200sccm；所述调色气体的气体流量为50-500sccm；

加载偏压为10-150V，占空比为10-80％；

金属靶的靶材电流为：柱靶3-120A，弧靶50-200A。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其中，在物理气相沉积之前进行辉光清洗，所述辉光清洗的条件包括：保护气体的气体流量为100-320sccm，加载偏压为380-1000V，占空比为10-80％，时间为160-720s。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其中，所述方法还包括对贵金属基体(1)的表面进行表面处理，以使贵金属基体(1)的表面粗糙度为0.001μm-50μm，优选0.005μm-0.2μm。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述方法还包括对表面处理后的贵金属基体(1)进行清洗，清洗的方式为：将贵金属基体(1)在20-30kHz的条件下超声洗涤1-15min，和/或采用95-98重量％的酒精清洁贵金属基体(1)表面；

优选地，所述方法还包括对超声处理后的贵金属基体(1)进行烘干，烘干温度为100-150℃，烘干时间为5-30min。