[发明专利]一种用于化工设备的清洗装置

权利要求书

1.一种用于化工设备的清洗装置，其特征在于，包括箱体（1），所述箱体（1）为空腔结构，所述箱体（1）的底部中部设置有排水阀（2），所述排水阀（2）的顶端贯穿所述箱体（1）且延伸至所述箱体（1）的内侧底部，所述箱体（1）的一侧中部设置有驱动电机一（3），所述驱动电机一（3）的顶部设置有转轴一（4），所述箱体（1）且靠近所述驱动电机一（3）的一侧上部设置有固定台（5），所述固定台（5）的顶部设置有支撑架（6），所述支撑架（6）的底端贯穿所述固定台（5）且与所述转轴一（4）固定连接，所述支撑架（6）的顶部设置有安装台（7），所述安装台（7）的顶部设置有驱动电机二（8），所述驱动电机二（8）的底端设置有转轴二（9），所述转轴二（9）的底端与转筒（10）的顶端固定连接，所述转筒（10）的底端贯穿所述安装台（7）且延伸至所述安装台（7）的下方，所述转筒（10）的外侧套设有固定筒（11），所述固定筒（11）的顶端延伸至所述安装台（7）的内侧，所述固定筒（11）的内侧底部设置有丝杆套（12），所述转筒（10）的内侧设置有丝杆（13），所述丝杆（13）的顶端对称设置有滑块（14），所述滑块（14）与设置于所述转筒（10）内侧的滑槽（15）匹配，所述丝杆（13）的底端依次贯穿所述转筒（10）和所述丝杆套（12）且延伸至所述箱体（1）的内侧，所述丝杆（13）的底端设置有喷头（16），所述喷头（16）的一侧设置有三通阀（17）。

2.根据权利要求1所述的一种用于化工设备的清洗装置，其特征在于，所述箱体（1）的底部设置有若干个垫脚（18），所述垫脚（18）围绕所述排水阀（2）呈环形设置。

3.根据权利要求1所述的一种用于化工设备的清洗装置，其特征在于，所述固定台（5）与所述支撑架（6）之间设置有轴承一（19）。

4.根据权利要求1所述的一种用于化工设备的清洗装置，其特征在于，所述转轴二（9）的底端设置有法兰（20），所述转轴二（9）通过所述法兰（20）与所述转筒（10）固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于化工设备的清洗装置，其特征在于，所述驱动电机二（8）的底部设置有固定块（21），所述驱动电机二（8）通过所述固定块（21）与所述安装台（7）固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种用于化工设备的清洗装置，其特征在于，所述转筒（10）的底端设置有限位环（22），所述限位环（22）与所述丝杆（13）匹配。