[发明专利]偏振膜的制造方法及制造装置在审
申请号: | 201810714192.0 | 申请日: | 2018-06-29 |
公开(公告)号: | CN109212650A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 武藤清;住田幸司;赵天熙;崔允硕 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B29C55/06;B29C55/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 交联 聚乙烯醇系树脂膜 偏振膜 浸渍 辐射能量 硼化合物 染色工序 制造装置 制造 电磁波照射 二色性色素 高温环境 光学特性 染色处理 照射波长 电磁波 上游 红外线 曝露 配置 收缩 取出 | ||
本发明提供即使曝露在高温环境下也不易收缩且具有优异光学特性的偏振膜的制造方法及制造装置。偏振膜的制造方法包括:利用二色性色素对聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序;依次使上述染色工序后的上述聚乙烯醇系树脂膜浸渍于n个(n为2以上的整数)交联浴中而进行交联处理的交联工序;以及对在从上游侧朝向下游侧配置为第x个(x为n以下的整数)的第x交联浴中浸渍后取出的上述聚乙烯醇系树脂膜,照射波长大于2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25%以上的电磁波的电磁波照射工序,各交联浴由硼化合物的浓度为0.5质量%以上的溶液构成,从上游侧朝向下游侧配置为第n个的第n交联浴由上述硼化合物的浓度为2.4质量%以下的溶液构成。
技术领域
本发明涉及由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法及制造装置。
背景技术
偏振板作为液晶显示装置等图像显示装置中的偏振元件等而被广泛使用。作为偏振板,通常呈现在偏振膜的单面或双面使用粘接剂等贴合透明树脂膜(保护膜等)而成的构成。
偏振膜主要通过下述工艺来制造:对由聚乙烯醇系树脂构成的原卷料膜实施浸渍于含有碘等二色性色素的染色浴中的处理,接着,实施使其浸渍于含有硼酸等交联剂的交联浴中的处理等,并且,在任意阶段中对膜进行单轴拉伸。单轴拉伸有在空气中进行拉伸的干式拉伸、和在上述染色浴及交联浴等液体中进行拉伸的湿式拉伸。
经交联的偏振膜若曝露在高温环境下则容易收缩,有时耐久性不充分。在日本特开2013-148806号公报(专利文献1)中记载了:提供一种偏振膜的硼含有率低至1重量%~3.5重量%而耐久性优异的偏振膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2013-148806号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于,提供即使曝露在高温环境下也不易收缩且具有优异光学特性的偏振膜的制造方法及制造装置。
用于解决课题的手段
本发明提供以下所示的偏振膜的制造方法、及制造装置。
〔1〕一种偏振膜的制造方法,其是由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法,其包括:
利用二色性色素对上述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序;
使上述染色工序后的上述聚乙烯醇系树脂膜依次浸渍于n个(n为2以上的整数)交联浴中而进行交联处理的交联工序;以及
对在从上游侧朝向下游侧配置为第x个(x为n以下的整数)的第x交联浴中浸渍后取出的上述聚乙烯醇系树脂膜,照射波长大于2μm且为4μm以下的红外线的辐射能量的比例为总辐射能量的25%以上的电磁波的电磁波照射工序,
各交联浴由硼化合物的浓度为0.5质量%以上的溶液构成,从上游侧朝向下游侧配置为第n个的第n交联浴由上述硼化合物的浓度为2.4质量%以下的溶液构成。
〔2〕〔1〕所述的偏振膜的制造方法,其中,在上述电磁波照射工序中,上述电磁波的照射热量相对于上述聚乙烯醇系树脂膜的每单位体积为100J/cm3以上且50kJ/cm3以下。
〔3〕〔1〕或〔2〕所述的偏振膜的制造方法,其中,x为n。
〔4〕〔1〕~〔3〕中任一项所述的偏振膜的制造方法,其中,第n交联浴的温度为30℃以上。
〔5〕〔4〕所述的偏振膜的制造方法,其中,第n交联浴的温度为35℃以上。
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