[发明专利]互连线结构、显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种互连线结构，其特征在于，所述互连线结构包括相互连接的第一区域和第二区域，所述第二区域的应力大于所述第一区域的应力，所述第一区域包括导电线，所述第二区域包括纳米金属线。

2.如权利要求1所述的互连线结构，其特征在于，所述互连线结构为折线结构，所述第二区域位于折线的拐点处。

3.如权利要求1或2所述的互连线结构，其特征在于，所述第二区域的应力为所述第一区域的应力的1.2倍以上。

4.如权利要求1或2所述的互连线结构，其特征在于，所述第二区域的图案为四边形、五边形、六边形、圆弧形、V字形中的一种或多种，其中，所述V字形的夹角为直角、钝角或者锐角。

5.如权利要求1或2所述的互连线结构，其特征在于，所述导电线的材料包括金线、银线或铜线，所述纳米金属线的材料包括纳米银线、纳米金线、纳米铂线或纳米铜线。

6.一种显示基板，其特征在于，包括基底以及设置在所述基底上的如权利要求1至5中任意一项所述的互连线结构。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示基板。

8.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基底；

在所述基底上形成互连线结构，所述互连线结构具有相互连接的第一区域和第二区域，所述第二区域的应力大于所述第一区域的应力；其中，

在所述基底上形成导电线图案，所述导电线图案构成所述互连线结构的第一区域；以及，

在所述基底上形成纳米金属线图案，所述纳米金属线图案与所述导电线图案相连通，所述纳米金属线图案构成所述互连线结构的第二区域。

9.如权利要求8所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述基底上形成导电线图案的步骤包括：在所述基底上形成一金属薄膜；刻蚀所述金属薄膜以形成所述导电线图案。

10.如权利要求8所述的显示基板的制作方法，在所述基底上形成纳米金属线图案的步骤包括：涂布一纳米金属层，所述纳米金属层覆盖所述导电线图案和暴露的所述基底；去除部分纳米金属层以形成所述纳米金属线图案。