[发明专利]一种硒化锡薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810697022.6 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN109023483A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 赵志国;李智昂;周毅平;张伟英;胡晓柯;付文文;范一丹;贾红 申请(专利权)人: 洛阳师范学院
主分类号: C25D13/02 分类号: C25D13/02;C25D13/22;C25D13/12
代理公司: 杭州千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 单燕君
地址: 471022 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 制备 硒化 锡薄膜 薄膜制备技术 电化学 电化学法 光电薄膜 生产效率 仪器设备 低成本 低能耗 上电 沉积 薄膜
【权利要求书】:

1.一种硒化锡薄膜,其特征在于,所述薄膜采用电化学法在ITO基片上电沉积制备而成。

2.一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

(1)称取 10mg~30 mg 的 SnSe 粉末放入 30ml~100 mL 的丙酮中,使用超声波清洗机超声震荡 15min~20 min,形成黑褐色的悬浊液;

(2)将悬浊液平均倒入两只离心管中,放入离心机中离心,离心机的转速为 2000 ~5000 r/min,离心后取上层清液于 50 mL 的烧杯中;

(3)称取3mg~10 mg的碘粉加入到离心后得到的上层清液中并超声15-20min,使碘粉颗粒充分分散在丙酮中得到SnSe 粉末与碘的悬浊液;

(4)将需要沉积 SnSe 薄膜的 ITO 基片连接直流稳压电源的负极,将金属钛片连接直流稳压电源的正极,然后将金属钛片与 ITO 基片保持平行并浸没在SnSe 粉末与碘的悬浊液中;

(5)打开直流稳压电源,调节电压为 30-80 V,施加在 ITO 基片与金属钛片之间,反应时间为3min~8min;反应结束后将 ITO 基片取出烘干,用去离子水冲洗两至三次,去除薄膜表面的碘杂质,得到纯净的SnSe薄膜。

3.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)或(4)中调节悬浮液的pH为8.5-9。

4.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(5)中电压为35-55V。

5.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(5)中温度为35-42℃。

6.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中还加入3-5mg碘化钾和3-5mg的碳酸氢钠。

7.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,离心机转速为3500-4000 r/min。

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