[发明专利]一种硒化锡薄膜及其制备方法在审
申请号: | 201810697022.6 | 申请日: | 2018-06-29 |
公开(公告)号: | CN109023483A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 赵志国;李智昂;周毅平;张伟英;胡晓柯;付文文;范一丹;贾红 | 申请(专利权)人: | 洛阳师范学院 |
主分类号: | C25D13/02 | 分类号: | C25D13/02;C25D13/22;C25D13/12 |
代理公司: | 杭州千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 单燕君 |
地址: | 471022 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 硒化 锡薄膜 薄膜制备技术 电化学 电化学法 光电薄膜 生产效率 仪器设备 低成本 低能耗 上电 沉积 薄膜 | ||
1.一种硒化锡薄膜,其特征在于,所述薄膜采用电化学法在ITO基片上电沉积制备而成。
2.一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)称取 10mg~30 mg 的 SnSe 粉末放入 30ml~100 mL 的丙酮中,使用超声波清洗机超声震荡 15min~20 min,形成黑褐色的悬浊液;
(2)将悬浊液平均倒入两只离心管中,放入离心机中离心,离心机的转速为 2000 ~5000 r/min,离心后取上层清液于 50 mL 的烧杯中;
(3)称取3mg~10 mg的碘粉加入到离心后得到的上层清液中并超声15-20min,使碘粉颗粒充分分散在丙酮中得到SnSe 粉末与碘的悬浊液;
(4)将需要沉积 SnSe 薄膜的 ITO 基片连接直流稳压电源的负极,将金属钛片连接直流稳压电源的正极,然后将金属钛片与 ITO 基片保持平行并浸没在SnSe 粉末与碘的悬浊液中;
(5)打开直流稳压电源,调节电压为 30-80 V,施加在 ITO 基片与金属钛片之间,反应时间为3min~8min;反应结束后将 ITO 基片取出烘干,用去离子水冲洗两至三次,去除薄膜表面的碘杂质,得到纯净的SnSe薄膜。
3.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)或(4)中调节悬浮液的pH为8.5-9。
4.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(5)中电压为35-55V。
5.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(5)中温度为35-42℃。
6.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中还加入3-5mg碘化钾和3-5mg的碳酸氢钠。
7.根据权利要求2所述的一种硒化锡薄膜的制备方法,其特征在于,离心机转速为3500-4000 r/min。
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