[发明专利]一种缺陷检测装置及缺陷检测方法

说明书

本发明公开了一种陷检测装置及缺陷检测方法。该缺陷检测装置包括照明模块和成像检测模块；照明模块用于产生探测光束，并使探测光束入射至待测产品的检测面上；成像检测模块用于检测探测光束是否经待测产品的检测面散射产生散射成像光束，并根据散射成像光束确定待测产品的缺陷信息；探测光束的照度满足：(U1×R)/(U2×L)≥S1；探测光束的半宽W满足：d×[tanα+tanβ]＞FOV/2+W。本实施例通过确定探测光束的半宽边缘与探测光束的中心之间的相对照度和探测光束的半宽确定照明模块产生的探测光束，以达到抑制缺陷检测过程中产生的串扰，提高缺陷检测精度。

技术领域

本发明实施例涉及缺陷检测技术领域，尤其涉及一种缺陷检测装置及缺陷检测方法。

背景技术

在半导体集成电路或平板显示的制备工艺中，为使产品保持较高的良率，在对掩模版或玻璃基板等进行曝光前，都需要进行缺陷(包括外来颗粒、指纹、划痕、针孔等)检测，以达到控制污染的目的。

图1是现有的一种缺陷检测装置的结构示意图，一般集成在光刻设备中的颗粒检测装置通常采用暗场散射测量技术，其检测原理如图1所示，从光源10发出的照明光线101经待测物体104上的缺陷114散射，散射光线102最终被探测器103所探测，然后根据探测器103检测到的散射光线确定缺陷的尺寸大小。

但现有的缺陷检测装置在缺陷检测的过程中，待测产品的下表面图案容易产生串扰信号，影响缺陷检测结果的准确性。

发明内容

本发明提供一种缺陷检测装置及缺陷检测方法，以实现抑制缺陷检测过程中产生的串扰。

第一方面，本发明实施例提供了一种缺陷检测装置，包括照明模块和成像检测模块；

所述照明模块用于产生探测光束，并使所述探测光束入射至待测产品的检测面；

所述成像检测模块用于检测所述探测光束是否经所述待测产品的检测面散射产生散射成像光束，并根据所述散射成像光束确定所述待测产品的缺陷信息；

其中，所述探测光束的照度满足：(U1×R)/(U2×L)≥S1；其中，S1为抑制所述待测产品的非检测面的串扰需要满足的信噪比，U1为所述探测光束的中心照度，R为最小可检测缺陷在可被接收角度内对光线的散射效率，U2为所述探测光束的半宽边缘的照度，L为所述非检测面上的最大串扰物在可被接收角度内对光线的散射效率；

所述探测光束的半宽W满足：d×(tanα+tanβ)＞FOV/2+W；

其中，d为所述待测产品的厚度；FOV为所述成像检测模块的有效视场；α为探测光束在所述待测产品中的折射角，β为所述散射成像光束在所述待测产品中的折射角。

进一步地，所述探测光束的照度还满足：(U1×R)/(U2×M×N)≥S2；其中，S2为抑制镜像串扰需要满足的信噪比，M为所述探测光束在镜像串扰区域内沿镜像串扰方向的散射效率，N为所述照明视场光线在镜像串扰方向的散射光线在所述待测产品内的反射率；

所述探测光束的半宽W还满足：2d×tanθ-FOV/2≥W，其中，θ为所述探测光束在镜像串扰方向的散射光线在所述待测产品中的折射角。

进一步地，所述探测光束的主光线的角度偏差小于5°；

所述散射成像光束的主光线的角度偏差小于5°。

进一步地，还包括：

水平运动模块；

所述水平运动模块用于承载所述待测产品沿平行于所述待测产品的检测面的方向运动。

进一步地，还包括：

焦面测量模块和垂直运动模块；

所述焦面测量模块用于检测所述待测产品的检测面的离焦量；