[发明专利]一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法

权利要求书

1.一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于包括以下步骤：

1)利用硅烷化试剂修饰基底，使基底表面的单分子层末端基团为惰性基团甲基；

2)利用电子束曝光技术蚀刻单分子层，以达到图形有序、可控；

3)用带阳离子功能基团的试剂修饰经过步骤2)处理的基底，使被电子束曝光出来的区域修饰上阳离子功能基团；

4)将设计出特定形状和大小的DNA纳米结构经过退火合成，超滤除去多余短链的DNA折纸沉积在基底上，孵育后清洗基底，除去金属离子及多余DNA折纸；

5)将基底放在密闭容器中，容器内放入硅源试剂、促进硅源水解的酸或碱溶液，密封反应后，取出基底，即得到具有特定纳米图案的掩膜版；

6)用紫外/臭氧处理掩膜版，除去表面的单分子层；利用DNA纳米结构作为图形骨架，利用蒸发法将硅源附着在DNA骨架上，硅源在自然条件或酸碱存在的条件下水解，生成二氧化硅包覆DNA骨架，而DNA纳米结构是由致密的DNA链组成，形成致密的特定形状的二氧化硅图形。

2.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于在步骤1)中，所述硅烷化试剂选自六甲基二硅氮烷或十八烷基三氯硅烷。

3.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于在步骤1)中，所述基底采用表面平整的玻璃或石英基片。

4.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于在步骤3)中，所述带阳离子功能基团的试剂选自3-氨丙基三乙氧基硅烷或四甲基氯化铵。

5.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于在步骤4)中，所述特定形状和大小根据实际需要而设计，小到DNA单链，大到尺寸为几微米的复杂DNA纳米图形；组成复杂DNA纳米图形的长链采用人工合成的长链、噬菌体M13mp18长链或其他生物体内的已知序列的长链。

6.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于在步骤4)中，所述清洗采用体积比乙醇︰去离子水＝9︰1的溶液清洗。

7.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于在步骤5)中，所述硅源选自正硅酸乙酯、3-氨丙基三甲氧基硅烷或N-三甲氧基硅基丙基-N,N,N-三甲基氯化铵。

8.如权利要求1所述一种基于DNA折纸纳米结构的制作掩膜版的方法，其特征在于所述促进硅源水解的酸或碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氨水或盐酸。