[发明专利]一种金属氧化物叠层场效应材料的制备方法

权利要求书

1.一种金属氧化物叠层场效应材料的制备方法，包括以下步骤：

采用真空气相沉积法在硅片衬底上依次层叠沉积厚度为2nm的MoO₃薄膜、厚度为2 nm的Al薄膜和厚度为3 nm的MoO₃薄膜，所述依次层叠的薄膜经氧化还原反应在所述硅片衬底上形成依次层叠的MoO₂第一表层、Al₂O₃芯层和MoO₂第二表层，所述MoO₂第一表层的厚度为2nm，所述MoO₂第一表层与硅片衬底接触；所述Al₂O₃芯层的厚度为2 nm；所述MoO₂第二表层的厚度为3 nm；所述MoO₂第一表层、Al₂O₃芯层和MoO₂第二表层构成金属氧化物叠层场效应材料；其中，沉积所述Al薄膜的操作参数为：真空度为10^-5 Pa，蒸距为30 cm，蒸发温度为750℃，蒸发电流为180 A，蒸发速率为1 Å/s；沉积所述MoO₃薄膜的操作参数为：真空度为10^-5Pa，蒸距为30 cm，蒸发温度为570 ℃，蒸发电流为4.5 A，蒸发速率为0.5 Å/s。