[发明专利]一种片材的制造装置和片材制造方法

权利要求书

1.一种片材的制造装置，其特征在于，所述制造装置包括依照工序连接的：

自动清洗上料机构，用于对玻璃基片进行清洗并进行上料操作；

干燥翻面机构，用于对清洗后的玻璃基片进行干燥/翻面操作；

摆盘机构，用于将经过干燥/翻面的玻璃基片摆放入料盘；

料盘堆垛机构，用于码垛摆放有玻璃基片的料盘；

料盘移送机构，用于移送料盘堆垛机构的料盘；

涂膜机构，用于对料盘移送机构移送过来的料盘进行玻璃基片涂膜；

静置机构，用于接收所述料盘移送机构移送过来的经过涂膜的玻璃基片料盘并进行堆垛；

所述料盘堆垛机构包括空料盘上料机构、输送带、顶出定位气缸、摆盘位置、阻挡气缸和满料盘堆垛机构；

将空的料盘放入空料盘上料机构，空料盘上料机构取料盘放入输送带，输送到摆盘位置，在摆盘位置通过阻挡气缸限位，顶出定位气缸将空的料盘顶出定位进行摆盘，摆满后顶出定位气缸复位将料盘放入输送带并打开阻挡气缸，输送带将料盘输送到满料盘堆垛机构，满料盘堆垛机构将满料盘堆垛。

2.根据权利要求1所述的制造装置，其特征在于，所述静置机构还用于将所述料盘放置入静置平台进行处理。

3.根据权利要求1所述的制造装置，其特征在于，所述摆盘机构包括摆盘机构X轴、摆盘机构Y轴、摆盘机构Z轴、摆盘机构夹爪，所述干燥翻面机构具体包括干燥翻面机构旋转气缸、干燥翻面机构夹爪、干燥翻面机构热风嘴、干燥翻面机构热风阀、干燥翻面机构热风机、干燥翻面机构热风排风管、干燥翻面机构检测器和干燥翻面机构Y轴；

干燥翻面机构夹爪从自动清洗上料机构上抓取玻璃基片，干燥翻面机构Y轴移送玻璃基片到干燥翻面机构检测器进行检测，若玻璃基片的磨砂面的方面是反的，干燥翻面机构旋转气缸将玻璃基片翻面，摆盘机构Z轴下行，摆盘机构夹爪夹取玻璃基片换手，摆盘机构X轴移送玻璃基片到干燥翻面机构热风嘴位置进行干燥，干燥后移送至料盘堆垛机构的摆盘位置进行摆盘。

4.一种采用权利要求1-3任一项所述的制造装置的片材制造方法，其特征在于，所述片材制造方法包括步骤：

对玻璃基片进行酸处理；

通过去离子水超声清洗；

采用无水乙醇清洗；

热风干燥单个玻璃基片；

按AB面并按规则放置于料盘上；

采用荧光聚合物置于圆底烧瓶后，加溶剂并超声处理，在恒定的温湿度环境中对玻璃基片进行点胶涂膜；

再次放置料盘上阴干。

5.根据权利要求4所述的片材制造方法，其特征在于，所述制造装置的制备环境温度介于20℃～25℃，湿度介于40％～60％。

6.根据权利要求5所述的片材制造方法，其特征在于，所述采用无水乙醇漂洗的步骤，还可以采用超纯水代替乙醇。

7.根据权利要求5所述的片材制造方法，其特征在于，所述热风干燥单个玻璃基片的步骤，采用夹取玻璃基片侧面的方式。

8.根据权利要求5所述的片材制造方法，其特征在于，所述按AB面并按规则放置于水平台上的步骤，采用可编程的方式编程摆放规则。

9.根据权利要求5所述的片材制造方法，其特征在于，所述加溶剂并超声处理的步骤，所述溶剂为甲苯。