[发明专利]一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法

说明书

本发明属于农业栽培领域，具体涉及一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法。本发明方法主要通过地表覆膜和拱棚搭建，减少外部雨水对栽植西瓜的影响，给西瓜生长提供一个相对干旱的环境；同时拱棚的加温作用提高白天温度，增大昼夜温差；根部的干旱刺激和生长点的高温差刺激，促使西瓜形成抗逆刺激反应，主要表现为提高糖分积累，提升果实品质。该栽培方法将西瓜的种植和采收时间提前的同时，提高西瓜品质，所得西瓜甜度提高，经济效益好。

技术领域

本发明属于农业栽培领域，具体涉及一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法。

背景技术

西瓜属于葫芦科西瓜属，原产非洲，双子叶开花植物，一年生蔓生藤本，雌雄同株，雌、雄花均单生于叶腋；果实为瓠果，葫芦科瓜类植物所特有的一种肉质果，是由三个心脾具有侧膜胎座的下位子房发育而成的假果，食用部分为发达的胎座，果瓤多汁为红色或者黄色；西瓜性寒，味甘，归心、胃、膀胱经，具有清热解毒、生津止渴、利尿除烦的功效，主治胸膈气壅，满闷不舒，小便不利，口鼻生疮，暑热，中暑，解酒毒等症。

全国各地均有栽培，品种甚多，外果皮、果肉及种子形式多样，以新疆、甘肃兰州、山东德州、江苏东台等地最为有名。

鉴于土壤和气候，特别是气候因素对于西瓜品质的影响，大部分地区的西瓜品质无法与西北地区相比较。

发明内容

为了解决以上技术难题，针对土壤和气候，特别是气候因素对于西瓜品质的影响，本发明提供了一种仿西北自然环境的西瓜栽培方法，通过人为改变西瓜的栽植环境，给予西瓜一定的逆境刺激，促使其糖分积累量增加，该栽培方法将西瓜的种植和采收时间提前的同时，提高西瓜品质，所得西瓜甜度和营养价值提高，经济效益好。

本发明方法主要通过地表覆膜和拱棚搭建，减少外部雨水对栽植西瓜的影响，给西瓜生长提供一个相对干旱的环境；同时拱棚的加温作用提高白天温度，增大昼夜温差；根部的干旱刺激和生长点的高温差刺激，促使西瓜形成抗逆刺激反应，主要表现为提高糖分积累，提升果实品质。通过人为模拟这种干旱和大温差的环境，达到提高果实品质的目的。

具体技术方案如下：

1)选地：选择排水良好的地块，土质以沙壤土为最佳，轻度粘重土壤亦可；尽量不选择过度粘重地块；

所述的沙壤土的土壤容重在1.1-1.3g/cm³之间,土壤硬度在80-100N之间，轻度粘重土壤的土壤容重在1.1-1.5g/cm³,且土壤硬度100-120N；尽量不选择过度粘重地块(土壤容重超过1.5g/cm³,且土壤硬度超过120N)；

2)整地：依次进行以下步骤：

浇水深耕：栽植前进行一次浇水，保证地块充分吸足水分；待可进地操作时，施肥后旋耕松土,旋耕深度不低于20cm；优选施肥为充分腐熟的生物有机肥(有机质含量不低于45％，有效活菌数不低于2千万cfu/g，总养分不低于5％)；上述生物有机肥为常规市售产品，施肥技术也为常规施肥技术。

覆盖地膜：旋耕完成之后立即进行地膜覆盖，地膜覆盖宽度为1.3-1.6m，地膜间隔宽度为70-190cm，作为后期人工操作通道；

搭设拱棚：覆膜完成后，在每行薄膜上方搭设拱棚，利用细钢管弯成拱形拱棚跨度与薄膜宽度相同，拱棚高度为40-60cm；拱棚为单层塑料薄膜(该塑料薄膜为普通大棚用薄膜)，在种植行两头将薄膜固定，薄膜宽度以自然垂落正好接触地面为宜；利用啤酒绳等材料固定塑料薄膜，防止被大风吹起；

3)西瓜栽植：

每行地膜栽植一行西瓜，每行西瓜栽植位置为距离地膜一侧边缘28-35cm处，每行中株距90-100cm，相邻两行栽植规则为奇偶行不同侧，可以形成大行间和小行间，方便后期管护；

4)后期管护