[发明专利]一种大口径精密光学元件表面洁净处理方法

权利要求书

1.一种大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1)抛光完成的大口径精密光学元件的预处理：大口径精密光学元件抛光完成后，采用清洁工具对大口径精密光学元件边缘的残留的抛光粉和固体污渍进行清除处理；

S2)大口径精密光学元件的预固定：经过步骤S1)后的大口径精密光学元件预固定在一个方形框架上，大口径精密光学元件的边缘嵌入所述方形框架内；

S3)大口径精密光学元件的上线输送：将步骤S2)中固定在方形框架上的大口径精密光学元件吊挂在产品输送线上，大口径精密光学元件的吊挂方式采用倾斜吊挂方式；

S4)大口径精密光学元件的首次冲洗：步骤S3)中产品输送线上的产品依次进入到去离子水冲洗室，经过特定导电率的去离子水冲洗一定的时间后进入超声波清洗槽；

S5)大口径精密光学元件的二次冲洗：经过步骤S4)去离子水冲洗后的产品进入特定频率的超声波清洗槽；产品在超声波清洗槽内清洗特定的时间后进入优级纯酒精置换槽；

S6)大口径精密光学元件的酒精清洗：经过步骤S5)超声波清洗后的产品进入到优级纯酒精置换槽进行酒精清洗，优级纯酒精的乙醇含量>99.8％；

S7)大口径精密光学元件的酒精脱水：经过步骤S6)优级纯酒精置换后的产品进入到酒精蒸汽脱水室，将酒精加热至沸腾状态，使酒精蒸汽对产品进行一定时间的处理；

S8)大口径精密光学元件的擦拭：酒精蒸汽脱水后的产品从产品输送线出来后采用柔软的长纤维布对产品的表面进行擦拭，避免元件在清洗过程中损伤；产品擦拭完成后封箱隔离包装。

2.根据权利要求1所述的大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，步骤S3)中的倾斜吊挂方式是将方形框架其中一个转角进行吊挂，使吊挂的转角与其对角呈垂直状态。

3.根据权利要求1所述的大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，步骤S4)中的去离子水的导电率为15兆，去离子水清洗产品的时间为3分钟～5分钟，去离子水清洗产品时的压力为常态压力。

4.根据权利要求1所述的大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，所述步骤S5)中的超声波清洗槽使用的超声波量为270KHZ～300KHZ，超声波清洗槽对产品的处理时间是2分钟～5分钟。

5.根据权利要求1所述的大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，所述步骤S7)中的酒精蒸汽脱水的时间为5分钟～7分钟。

6.根据权利要求1所述的大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，所述步骤S8)中的长纤维布对产品的表面进行擦拭过程中采用慢速擦拭的方式。

7.根据权利要求6所述的大口径精密光学元件表面洁净处理方法，其特征在于，所述慢速擦拭的速度为0.05m/s～0.2m/s。