[发明专利]低温烧成高铝陶瓷及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810663748.8 申请日: 2018-06-25
公开(公告)号: CN108892489A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 任国兴;马冬冬 申请(专利权)人: 河津市锦浩特种陶瓷有限公司
主分类号: C04B35/117 分类号: C04B35/117;C04B35/622
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 043300 山西省运*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 高铝陶瓷 低温烧成 制备 生物性能 三氧化二锑 三氧化二铋 氧化铝陶瓷 重量份配比 高岭土 二氧化硅 二氧化钛 工艺难度 能源损耗 使用寿命 现有设备 烧结 氧化钙 氧化铝 氧化镁 钵具 烧成 窑炉 钼棒
【权利要求书】:

1.低温烧成高铝陶瓷,其特征在于包括如下重量份配比的原料:

三氧化二铋 0.2~1份,

三氧化二锑 0.2~1份,

二氧化钛 0.4~1份,

氧化镁 0.1~0.5份,

二氧化硅 0.5~1.5份,

高岭土 0.5~2份,

氧化钙 2~8份,

氧化铝 100份。

2.根据权利要求1所述的低温烧成高铝陶瓷,其特征在于包括如下重量份配比的原料:

三氧化二铋 0.3~0.5份,

三氧化二锑 0.3~0.5份,

二氧化钛 0.4~0.8份,

氧化镁 0.2~0.4份,

二氧化硅 0.5~1份,

高岭土 1~2份,

氧化钙 2~4份,

氧化铝 100份。

3.根据权利要求1所述的低温烧成高铝陶瓷,其特征在于:所述三氧化二铋、三氧化二锑、二氧化钛均采用细度为D50≤4微米的高纯度、高细度原料。

4.根据权利要求1所述的低温烧成高铝陶瓷,其特征在于:所述氧化镁、二氧化硅、高岭土、氧化钙和氧化铝均采用细度为D50≤4微米的高纯度、高细度原料。

5.如权利要求1所述的低温烧成高铝陶瓷的制备方法,其特征在于包括如下步骤:

第一步,按所述配比将原料倒入容器中加水混合成料浆,所述原料与水的重量份配比为:原料300份,水150-180份;

第二步,在料浆内加入分散剂和塑化剂,并对料浆进行搅拌湿磨,搅拌速度为90-120r/min,搅拌时间为140-160 min,经激光粒度检测仪检测料浆的细度到达D50≤2.2微米时停止湿磨;

第三步,在料浆内加入PVA溶液并混合均匀,所述PVA溶液的重量为料浆总重的10-12%;

第四步,将料浆通过喷雾造粒塔进行造粒,然后干压或等静压成型;

第五步,将粉料制成陶瓷毛坯并在隧道窑中进行烧制成型,隧道窑中的烧制温度为1490~1520℃,且陶瓷毛坯在烧制中必须在1520℃下保温2-2.5 h;

第六步,将烧制成型的高铝陶瓷移出隧道窑后冷却。

6.根据权利要求5所述的低温烧成高铝陶瓷的制备方法,其特征在于:所述第三步中的PVA溶液为浓度10%的PVA溶液。

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