[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

基底；

位于所述基底上的第一像素限定层；其中，所述第一像素限定层中具有第一容纳部；

填充于所述第一容纳部中的平坦化图案；其中，所述平坦化图案的背离所述基底的表面，与所述第一像素限定层的背离所述基底的表面齐平；

位于所述第一像素限定层和所述平坦化图案背离所述基底一侧的显示器件的第一极；其中，所述第一极覆盖所述平坦化图案；

位于所述显示器件的第一极背离所述基底一侧的第二像素限定层；其中，所述第二像素限定层中具有第二容纳部；所述第二容纳部与所述第一容纳部对应设置，且在所述第二容纳部位置裸露所述第一极；

形成在所述第二容纳部中的所述显示器件的有机功能层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在所述第一像素限定层靠近所述基底的一侧还设置有与所述第一像素限定层接触的第一平坦化层。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一平坦化层在所述基底上的正投影覆盖所述第一像素限定层在所述基底上的正投影。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述有机功能层背离所述基底一侧的第二极。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括OLED基板；所述显示器件包括OLED器件；其中，所述显示器件的第一极为所述OLED器件的第一极；所述显示器件的第二极为所述OLED器件的第二极；

所述OLED器件的第一极为反射电极，所述OLED器件的第二极为透射电极。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，在所述基底和所述第一像素限定层之间还设置有薄膜晶体管；其中，所述薄膜晶体管所在区域与所述OLED器件所在区域在所述基底上的正投影至少部分重叠。

7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上，通过构图工艺形成包括第一像素限定层的图形；其中，所述第一像素限定层中具有第一容纳部；

形成填充于所述第一容纳部中的平坦化图案；其中，所述平坦化图案的背离所述基底的表面，与所述第一像素限定层的背离所述基底的表面齐平；

形成显示器件的第一极的图形；其中，所述第一极覆盖所述平坦化图案；

通过构图工艺形成包括第二像素限定层的图形；其中，所述第二像素限定层中具有第二容纳部；所述第二容纳部与所述第一容纳部对应设置，且在所述第二容纳部位置裸露所述第一极；

在所述第二容纳部中形成所述显示器件的有机功能层。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述第一像素限定层之前，还包括：

在所述基底上形成第一平坦化层；其中，所述第一像素限定层靠近所述基底的一侧与所述第一平坦化层接触。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成填充于所述第一容纳部中的平坦化图案的步骤，包括：

在所述第一像素限定层背离所述基底的一侧形成第二平坦化层；

对所述第二平坦化层进行刮涂，形成仅位于所述第一容纳部中的平坦化图案。

10.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述通过构图工艺形成包括第二像素限定层的图形的步骤之后，还包括：

在所述有机功能层背离所述基底的一侧形成第二极。

11.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括OLED基板；所述显示器件包括OLED器件；在形成所述第一像素限定层之前，还包括：

在所述基底上形成包括薄膜晶体管的各层结构的步骤；其中，所述薄膜晶体管所在区域与所述OLED器件所在区域在所述基底上的正投影至少部分重叠。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的显示基板。