[发明专利]一种光伏片清洗剂在审
申请号: | 201810660883.7 | 申请日: | 2018-06-25 |
公开(公告)号: | CN108690747A | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
发明(设计)人: | 朱立芳;朱同武;朱嘉伟 | 申请(专利权)人: | 安徽全兆光学科技有限公司 |
主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/04;C11D3/08;C11D3/10;C11D3/37;C11D3/33;C11D3/60;C11D11/00 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 翟攀攀 |
地址: | 246500 安徽省安庆*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光伏 去除 清洗剂 清洗 壬基酚聚氧乙烯醚 阴离子表面活性剂 阴离子聚丙烯酰胺 二丙二醇二甲醚 四甲基氢氧化铵 表面活性剂 基材腐蚀性 清洗剂技术 有机物污染 质量百分比 表面附着 表面光亮 金属杂质 聚乙烯醇 抗静电剂 嵌段聚醚 氢氧化钠 去离子水 生产加工 微小颗粒 防静电 硅酸钠 络合剂 耐酸雨 碳酸钠 异丙醇 月桂醇 协同 配合 | ||
本发明公开了一种光伏片清洗剂,涉及清洗剂技术领域,其原料按质量百分比计,包括:月桂醇嵌段聚醚表面活性剂7‑15%、壬基酚聚氧乙烯醚3‑6%、阴离子表面活性剂3‑6%、络合剂4‑8%、二丙二醇二甲醚2‑5%、异丙醇1‑3%、四甲基氢氧化铵4‑8%、氢氧化钠2‑4%、硅酸钠2‑5%、碳酸钠2‑5%、阴离子聚丙烯酰胺1‑3%、聚乙烯醇1‑3%、抗静电剂1‑2%,余量为去离子水。本发明中各成分协同配合作用,对光伏片表面附着的金属杂质、微小颗粒有很好的去除效果,还能够去除表面的有机物污染,且对基材腐蚀性小,适用于光伏片生产加工过程中的清洗,清洗去除率在99%以上,清洗后的光伏片表面光亮,防静电,耐酸雨效果明显。
技术领域
本发明涉及清洗剂技术领域,尤其涉及一种光伏片清洗剂。
背景技术
光伏组件(俗称太阳能电池板)由太阳能电池片(整片的两种规格125*125mm、156*156mm、124*124mm等)或由激光切割机或钢线切割机切割开的不同规格的太阳能电池组合在一起构成。光伏组件在成型前需要将单个的光伏片焊接后方可进行拼接、中间测试、层压和削边等工序。光伏片是以半导体物料硅制成的薄片,要求其在使用前外观应呈银灰色,不允许存在夹层,发黑,氧化,指纹和沾污的痕迹或杂质,因此,在高效单晶硅太阳能光伏组件制备工艺中,要想获得高的光电转化效率,必须保证光伏片表面清洁,其表面金属污染必须降低到有害值以下。
现阶段光伏片加工都采用多线切割机,多线切割机采用钢丝带动碳化硅磨料进行切割光伏片,会造成光伏片表面的有机物沾污、颗粒沾污以及金属离子沾污,这些杂质的污染特别是金属离子污染物如Cu、Fe、Na等,很容易从硅片表面扩散到内部形成深能级复合中心,从而影响非平衡少子寿命进而降低光电转化效率。所以光伏片在用于光伏组件生产前一定要先清洗,以去除杂质。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污,然后溶解氧化膜,因为氧化层是“沾污陷进”,会引起外延缺陷;再去除颗粒、金属等,同时使硅片的表面钝化。
目前多数光伏片清洗剂采用RAC清洗中的一号液和三号液,但是一号液显碱性,可能会造成硅表面粗糙,要严格控制温度、浓度和时间;三号液显酸性,有强腐蚀性,对人体健康也不利,生产成本高,有刺激性气味,污染环境,因此需要进一步改进配方,以达到清洁彻底、无污染、腐蚀小、对人体健康、电路安全、降低成本的目的。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种光伏片清洗剂,对光伏片表面附着的金属杂质、微小颗粒、有机物污染有很好的去除效果,且对基材腐蚀性小。
本发明提出的一种光伏片清洗剂,其原料按质量百分比计,包括:月桂醇嵌段聚醚表面活性剂7-15%、壬基酚聚氧乙烯醚3-6%、阴离子表面活性剂3-6%、络合剂4-8%、二丙二醇二甲醚2-5%、异丙醇1-3%、四甲基氢氧化铵4-8%、氢氧化钠2-4%、硅酸钠2-5%、碳酸钠2-5%、阴离子聚丙烯酰胺1-3%、聚乙烯醇1-3%、抗静电剂1-2%,余量为去离子水。
优选地,所述月桂醇嵌段聚醚表面活性剂的制备如下:将月桂醇和氢氧化钠加入到反应釜中,升温至80-90℃,抽真空除水,氮气置换反应釜中空气,升温至130-140℃,加入环氧乙烷,加入过程中保证反应釜内压力恒定,滴加完毕后保持20-30min,然后加入环氧丙烷,加入过程中保持反应釜内压力恒定,滴加完毕后保持20-30min,再加入环氧乙烷,加入过程中保持反应釜内压力恒定,滴加完毕后保持30-40min,停止反应,中和反应体系至中性,出料,即得月桂醇嵌段聚醚。
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