[发明专利]一种光学蓝宝石用研磨液

说明书

本发明公开了一种光学蓝宝石用研磨液，涉及研磨抛光技术领域，其原料按重量份包括：氮化硼微粉4‑7份、石英砂微粉5‑9份、硬脂酸3‑6份、乙二醇4‑7份、木质素磺酸钠2‑5份、蒙脱土5‑9份、氢氧化钠2‑4份、聚乙二醇5‑10份、润滑剂2‑4份、非离子表面活性剂5‑10份、葡萄糖酸钠3‑7份、硅酸钠5‑8份，水30‑40份。本发明的研磨液的研磨效率高，精度高，且对工件表面的划伤损失小，能够得到光洁的表面，用于光学蓝宝石的研磨抛光，能使蓝宝石片达到纳米0.1平整度，为后续精密抛光加工提供了良好的条件。

技术领域

本发明涉及研磨抛光技术领域，尤其涉及一种光学蓝宝石用研磨液。

背景技术

蓝宝石俗称刚玉，具有优良的机械、光学、化学、电学特性，并且能够耐高温，抗辐射，被广泛用于耐磨器件、光学窗口、衬底材料、导弹整流罩等领域。光学蓝宝石的普遍应用对它的超光滑无损伤表面加工提出了更高要求。研磨加工是光学蓝宝石材料获得良好平整度和弯曲度，以及表面粗糙度，保证抛光质量和效率的关键工序。

当前市场上的蓝宝石表面研磨抛光，普遍采用的研磨材料一般为氧化铝、氧化锆、金刚石、氧化硅、氧化钛、氮化硅等，但在实际应用中，现有粒子的粒径小、表面活性大，粒子间相互作用力强，已分散好的纳米粒子易发生团聚，影响研磨液组合物的性能；同时研磨粒子如纳米金刚石、三氧化二铝、氧化锆、氮化硅等，硬度均较大，抛光过程中对表面的损伤较严重，不仅造成表面粗糙度较大，还易出现抛光划痕、凹坑等表面缺陷；同时分散性、稳定性较好的氧化硅等材料的抛光速率又较低，不能满足现有技术的要求。

发明内容

基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种光学蓝宝石用研磨液，研磨效率高，精度高，且对工件表面的划伤损失小。

本发明提出的一种光学蓝宝石用研磨液，其原料按重量份包括：氮化硼微粉4-7份、石英砂微粉5-9份、硬脂酸3-6份、乙二醇4-7份、木质素磺酸钠2-5份、蒙脱土5-9份、氢氧化钠2-4份、聚乙二醇5-10份、润滑剂2-4份、非离子表面活性剂5-10份、葡萄糖酸钠3-7份、硅酸钠5-8份，水30-40份。

优选地，所述氮化硼微粉的粒径为20-40μm；优选地，石英砂微粉的粒径为20-40μm。

优选地，所述蒙脱土的粒径为30-50μm。

优选地，所述硬脂酸和乙二醇的质量比为1：1-1.5。

优选地，所述木质素磺酸钠和蒙脱土的质量比为1：1.5-2。

优选地，所述润滑剂为甘油、二甲基硅油、乙撑双硬脂酰胺中的一种，优选地，为二甲基硅油。

优选地，所述非离子表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚，优选地，为壬基酚聚氧乙烯醚。

上述光学蓝宝石用研磨液的制备按照现有常规制备方法进行制备。

上述光学蓝宝石用研磨液在使用时，将研磨液和水按照1：2-4的体积比进行稀释后使用。