[发明专利]一种可自清理的旋转式污水处理装置

说明书

一种可自清理的旋转式污水处理装置。涉及污水处理领域，尤其涉及一种可自清理的旋转式污水处理装置。结构精巧、可对污泥颗粒充分研磨且可防止污泥颗粒堆积在研磨本体上。包括池体，研磨体、立柱、至少一对刮板和连接组件，所述池体的底部为半球状的研磨槽，所述研磨体包括半球状的研磨本体和若干研磨块，所述研磨本体与研磨槽相适配，所述研磨本体通过转轴铰接于研磨槽的槽底，若干所述研磨块为半球状，若干所述研磨块均布在研磨本体的球面上、且位于研磨块与研磨槽之间；所述立柱通过连接组件铰接在研磨本体的平面上，所述连接组件使得所述立柱与所述研磨本体发生相对转动。本发明有效解决了泥颗粒堆积在研磨本体上的问题。

技术领域

本发明涉及污水处理领域，尤其涉及一种可自清理的旋转式污水处理装置。

背景技术

污水处理流程一般均包括沉淀和曝气这两个步骤，因此，在具体实施污水处理时，均分设有沉淀池及曝气池，而污水在沉淀的过程中，自然会有污泥沉淀在沉淀池的底部，再通过污泥管道将池底的污泥连通至污泥处理场，由于污泥的颗粒大小不同，在实际处理过程中，较大的污泥颗粒易使得污泥管道堵塞，从而需要工作人员进行定期清理。

发明内容

本发明针对以上问题，提供了一种结构精巧、可对污泥颗粒充分研磨且可防止污泥颗粒堆积在研磨本体上的可自清理的旋转式污水处理装置。

本发明的技术方案是：包括池体，研磨体、立柱、至少一对刮板和连接组件，所述池体的底部为半球状的研磨槽，所述研磨体包括半球状的研磨本体和若干研磨块，所述研磨本体与研磨槽相适配，所述研磨本体通过转轴铰接于研磨槽的槽底，若干所述研磨块为半球状，若干所述研磨块均布在研磨本体的球面上、且位于研磨块与研磨槽之间；

所述立柱通过连接组件铰接在研磨本体的平面上，所述连接组件使得所述立柱与所述研磨本体发生相对转动；

一对所述刮板对称的固定连接在立柱的侧面，所述刮板的底部抵在研磨本体的上表面上，所述转轴内设有驱动电机，所述驱动电机用于驱使研磨本体绕转轴转动。

所述连接组件为动力电机，所述动力电机固定连接在研磨本体的上表面上。

所述立柱的底部设有安置槽，所述连接组件设于安置槽内，所述连接组件包括大齿轮、转轴一、小齿轮和转轴二，所述大齿轮固定连接在研磨本体的上表面上、且与研磨本体同轴心，所述立柱通过转轴一与大齿轮相铰接，所述小齿轮通过转轴二铰接在研磨本体的上表面上，所述小齿轮抵在大齿轮与安置槽的侧壁之间，所述安置槽的侧壁上设有齿条，所述小齿轮与大齿轮和齿条相适配。

所述大齿轮与小齿轮的齿轮传动比大于1。

所述刮板的表面涂覆有防腐涂层。

本发明具体使用时，将污水置于池体内沉淀，污泥颗粒将会逐渐聚集于研磨槽，此时，通过驱动电机驱动研磨本体转动，若干研磨块即可将沉淀于研磨槽中的污泥颗粒进行研磨，从而可将大小不同的污泥颗粒均研磨成较小的污泥颗粒；

但当本案运行较长时间后，我们发现，由于研磨本体的上表面为平面，因此较多的污泥堆积在研磨本体的上表面上，为此，本案通过连接组件使得立柱与研磨本体发生相对转动，这样即可使得刮板可相对于研磨本体转动，从而可通过刮板将堆积在研磨本体上表面的污泥颗粒刮除，使得堆积在其上的污泥重新回到池体内的污水中，从而有效解决了泥颗粒堆积在研磨本体上的问题。

附图说明

图1是本发明的结构示意图，

图2是本发明的优选实施例，

图3是图2中的A处放大图，

图4是图3中A-A向的剖视图；