[发明专利]有机光电半导体材料及其制备方法与应用在审
| 申请号： | 201810652507.3 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN110627601A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 胡文平;李金峰;郑磊;张小涛 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C07C1/32 | 分类号： | C07C1/32;C07C15/28;C07F7/08;C09K11/06 |
| 代理公司： | 12214 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 王秀奎;李蕊 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光电半导体材料 乙炔基 滤渣 蒽基 制备 惰性气体环境 三异丙基硅基 碳酸钾水溶液 有机光电材料 制备反应路线 合成成本 环境友好 三苯基磷 原料价格 洗涤剂 反应物A 反应物 普适性 异丙基 甲苯 硅基 催化剂 洗涤 过滤 应用 | ||
1.一种有机光电半导体材料，其结构式如下：
其中，R1为氢或三异丙基硅基乙炔，R2为氢或三异丙基硅基乙炔，所述有机光电半导体材料为2,6-二蒽基萘、2,6-双(9,10-二三异丙基硅基乙炔基蒽基)萘或2,6-二蒽-1,5-双(三异丙基硅基乙炔基)萘。
2.如权利要求1所述有机光电半导体材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
在惰性气体环境下，将反应物A、反应物B、作为催化剂的四(三苯基磷)钯、甲苯和碳酸钾水溶液均匀混合，混合后升温至90～100℃反应24～96小时，过滤得到滤渣，用洗涤剂洗涤所述滤渣，得到所述有机光电半导体材料，其中，所述反应物A和反应物B的物质的量的比为(2.1～2.4)：1，所述甲苯的体积份数、所述反应物B的物质的量份数和碳酸钾水溶液中碳酸钾物质的量份数的比为(9～15)：1：(4～15)；
当所述有机光电半导体材料为2,6-二蒽基萘时，所述反应物A为2-硼酸蒽，所述反应物B为2,6-二溴萘；
当所述有机光电半导体材料为2,6-双(9,10-二三异丙基硅基乙炔基蒽基)萘时，所述反应物A为2-溴-9,10-二三异丙基硅基乙炔基蒽，所述反应物B为2,6-双(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧杂环戊硼烷-2-基)萘；
当所述有机光电半导体材料为2,6-二蒽-1,5-双(三异丙基硅基乙炔基)萘时，所述反应物A为2-硼酸蒽，所述反应物B为2,6-二溴-1,5-双(三异丙基硅基乙炔基)萘。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，当所述有机光电半导体材料为2,6-二蒽基萘时，所述反应物A和反应物B的物质的量的比为(2.1～2.2)：1。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，当所述有机光电半导体材料为2,6-双(9,10-二三异丙基硅基乙炔基蒽基)萘时，所述反应物A和反应物B的物质的量的比为(2.2～2.4)：1。
5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，当所述有机光电半导体材料为2,6-二蒽-1,5-双(三异丙基硅基乙炔基)萘时，所述反应物A和反应物B的物质的量的比为(2.1～2.2)：1。
6.根据权利要求3或4或5所述的制备方法，其特征在于，按物质的量计，所述反应物B与所述催化剂的比为1：(0.05～0.1)。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述碳酸钾水溶液中碳酸钾的浓度为2M，体积份数的单位为mL，物质的量份数的单位为mmol。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气或氮气。
9.如权利要求2～8所述制备方法在制备所述有机光电半导体材料中的应用。
10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述制备方法的产率为69～89％。
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