[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810652245.0 申请日: 2018-06-22
公开(公告)号: CN108803170B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 姚磊;史大为;王文涛;杨璐;徐海峰;闫雷;王金锋;薛进进;闫芳;司晓文;候林;郭志轩;李元博;李晓芳 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板以及设在所述衬底基板一侧的多条栅线,所述栅线背向所述衬底基板的一侧设有多条数据线;每条所述栅线包括多个由各所述数据线分隔形成的栅线子段;每条所述栅线与所述衬底基板之间均设有多个遮光金属部;其中,

每相邻的两个所述栅线子段与一个所述遮光金属部对应,且每相邻的两个所述栅线子段通过对应的所述遮光金属部串联;

所述栅线与所述数据线之间设有层间绝缘层;所述栅线的各所述栅线子段与对应的所述遮光金属部之间设有栅绝缘层和/或缓冲层; 所述栅线子段在所述衬底基板的正投影,与对应的所述遮光金属部在所述衬底基板的正投影部分重叠;

所述遮光金属部在所述衬底基板的正投影,与用于分隔形成对应的所述栅线子段的数据线在所述衬底基板的正投影交叉;

每条所述数据线与所述衬底基板之间均设有多个栅线浮置段;每个所述栅线浮置段均设在相邻的两个所述栅线子段之间,且与对应的两个所述栅线子段同层绝缘。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板上设有薄膜晶体管阵列;所述薄膜晶体管的源漏极与所述数据线同层设置;所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线同层设置,且一行所述薄膜晶体管的栅极与一条所述栅线对应;

每个所述栅极与所述衬底基板之间均设有与对应的所述栅线相连的遮光金属部,且每个所述栅极分别与对应的所述遮光金属部相连。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述源漏极与所述栅极之间设有层间绝缘层;所述栅极与所述遮光金属部之间依次设有栅绝缘层、有源层和缓冲层。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光金属部的制作材料与所述栅线的制作材料相同。

5.一种如权利要求1-4中任一项所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一衬底基板,在所述衬底基板的一侧形成多个遮光金属部;

在所述遮光金属部背向所述衬底基板的一侧形成多条栅线;其中,每条所述栅线包括多个栅线子段;每相邻的两个所述栅线子段与一个所述遮光金属部对应,且每相邻的两个所述栅线子段通过对应的所述遮光金属部串联;

在所述栅线背向所述遮光金属部的一侧形成多条数据线;每相邻的两个所述栅线子段分别位于一条数据线的两侧。

6.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述在所述遮光金属部背向所述衬底基板的一侧形成多条栅线的步骤,包括:在所述遮光金属部背向所述衬底基板的表面依次形成缓冲层和栅绝缘层,并通过构图工艺在所述缓冲层和所述栅绝缘层上形成多个过孔;

在所述栅绝缘层背向所述遮光金属部的表面形成多条所述栅线,每条所述栅线中的各所述栅线子段分别通过所述过孔与对应的遮光金属部串联;

所述在所述栅线背向所述遮光金属部的一侧形成多条数据线的步骤,包括:

在所述栅线背向所述遮光金属部的表面形成层间绝缘层;

在所述层间绝缘层背向所述栅线的表面形成多条所述数据线。

7.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-4任一项所述的阵列基板。

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