[发明专利]显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201810644554.3 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN108761893B 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 吉强;唐文浩;尹海斌;钟国强;吴伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 林祥
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 制备 方法 矩阵 材料 显示装置
【说明书】:

发明公开了一种显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置,该显示基板包括衬底;黑矩阵图形,所述黑矩阵图形位于所述衬底上,且呈网格状分布;所述黑矩阵图形由遮光纳米微粒形成。该显示基板制作流程简单。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置。

背景技术

黑矩阵的制备工艺是制备显示装置中的重要工艺之一,目前,制作黑矩阵(BMBlack Matrix,简称BM)的材料包括黑色树脂(Black Resin),采用黑色树脂制作黑矩阵层需要采用黄光工艺,黄光工艺主要包括涂胶、软烘、曝光和显影等步骤,制作流程较复杂。

发明内容

本发明提供一种显示基板及制备方法、黑矩阵材料的制备方法和显示装置,以解决相关技术中的不足。

根据本发明实施例的第一方面,提供一种显示基板,包括:

衬底;

黑矩阵图形,所述黑矩阵图形位于所述衬底上,且呈网格状分布;

所述黑矩阵图形由遮光纳米微粒形成。

可选的,所述遮光纳米微粒为钛黑纳米微粒或碳黑纳米微粒。

可选的,所述黑矩阵图形包括多条沿第一方向延伸的第一遮光线和多条沿第二方向延伸的第二遮光线,所述第一方向和所述第二方向交叉设置;

所述遮光线的宽度范围为2微米至7微米。

根据本发明实施例的第二方面,提供一种黑矩阵材料的制备方法,包括:

制备遮光纳米微粒;

将所述遮光纳米微粒均匀分散在分散液中,形成液态遮光纳米颜料。

可选的,所述遮光纳米微粒为钛黑纳米微粒,所述制备遮光纳米微粒包括:

将二氧化钛粉末在第一温度下发生还原反应第一时间得到钛黑粉末;

逐步将所述第一温度降低至第二温度,使所述钛黑粉末结晶变成结晶态钛黑纳米微粒;

在第三温度下对所述结晶态钛黑纳米微粒进行真空干燥第二时间后,在第四温度下对所述结晶态钛黑纳米微粒进行冷却以形成颗粒状的钛黑纳米微粒。

可选的,所述将所述遮光纳米微粒均匀分散在分散液中,形成液态遮光纳米颜料包括:

将所述遮光纳米微粒放入分散液中;

通过超声振动方式对所述分散液进行振动处理,使所述遮光纳米微粒均匀分散在分散液中,形成液态遮光纳米颜料。

可选的,所述分散液为水、乙醇和水溶性分散剂的混合溶液。

可选的,所述水溶性分散剂在所述分散液中的质量百分比大于等于2%且小于等于3%。

根据本发明实施例的第三方面,提供一种显示基板的制备方法,包括:

提供一衬底;

在所述衬底上采用上述任一所述的液态遮光纳米颜料形成网格状预图形;

对所述网格状预图形进行烘干处理,在所述衬底上形成由遮光纳米微粒制成的呈网格状分布的黑矩阵图形。

可选的,在所述提供一衬底之后,还包括:

将所述衬底加热至第五温度。

可选的,所述在所述衬底上采用上述任一所述的液态遮光纳米颜料形成网格状预图形,包括:

在所述衬底上采用上述的液态遮光纳米颜料打印由多条相互交叉的第一宽度遮光线组成的网状预图形。

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